发明名称
摘要 A positive radiation-sensitive composition comprising:(a) a resin whose solubility in an alkali developer increases by the action of an acid;(b) a compound which generates a carboxylic acid having a molecular weight of 100 or less upon irradiation with an actinic ray or a radiant ray;(c) a surfactant; and(d) a solvent.
申请公布号 JP4562240(B2) 申请公布日期 2010.10.13
申请号 JP20000137461 申请日期 2000.05.10
申请人 发明人
分类号 G03F7/039;C08F212/14;C08K5/00;C08K5/16;C08L25/18;C08L101/14;G03F7/004;H01L21/027 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人
主权项
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