发明名称 流体机械的密封机构
摘要 密封机构(10)能够降低工作过程中的噪音。密封机构(10)被用于流体机械(P)以防止流体从高压空间(H)泄漏进入流体机械(P)内的低压空间(L)。密封机构(10)具有可以沿径向移动的环形密封件(12)和壳体(11),该壳体(11)设置在流体机械(P)的本体(23)与位于流体机械(P)的本体(23)内部的旋转件(22)之间以容纳环形密封件(12)。环形密封件(12)具有位于流体机械(P)内的低压空间(L)一侧的第一表面(12a)。壳体(11)具有面对环形密封件(12)的第一表面(12a)的第二表面(11c)。密封机构(10)具有一个或多个形成于第一表面(12a)和/或第二表面(11c)内的通道(15)。
申请公布号 CN1839275B 申请公布日期 2010.10.13
申请号 CN200480023841.9 申请日期 2004.11.12
申请人 株式会社荏原制作所 发明人 伊藤昭二;川畑润也
分类号 F04D29/16(2006.01)I;F16J15/44(2006.01)I 主分类号 F04D29/16(2006.01)I
代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人 刘兴鹏
主权项 一种用于流体机械(2)以防止流体从流体机械(2)内的高压空间(H)泄漏进入低压空间(L)的密封机构(10),所述密封机构包括:环形密封件(12),其可以沿径向移动,所述环形密封件(12)具有布置在流体机械内的低压空间一侧上的第一表面(12a);壳体(11),其设置在流体机械的本体(23)与位于流体机械的本体内部的旋转件(13)之间,以容纳所述环形密封件(12),所述壳体(11)具有第二表面(11c),其面对所述环形密封件(12)的所述第一表面(12a);其中,至少一个通道(15,17),其以这样的方式形成于所述第一表面(12a)和所述第二表面(11c)中至少一个内,即低压空间的负压被引入所述至少一个通道(15,17)内以使所述环形密封件(12)与所述壳体(11)的所述第二表面(11c)紧密接触,所述至少一个通道(15,17)包括多个没有到达所述环形密封件(10)的外周表面(12c)的通道。
地址 日本东京
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