发明名称 |
曝光装置和图像形成装置 |
摘要 |
本发明提供一种曝光装置和图像形成装置,该曝光装置包括:发光元件阵列,在该发光元件阵列发出通过扩散光的光路的光的多个发光元件一维地或二维地排列在基板上;以及全息元件阵列,在该发光元件阵列多个全息元件形成在位于所述基板上的全息记录层中分别对应于所述多个发光元件的位置,以在全部所述多个发光元件的照射区域的外侧衍射且会集从所述多个发光元件分别发出的各光。 |
申请公布号 |
CN101856914A |
申请公布日期 |
2010.10.13 |
申请号 |
CN200910265268.7 |
申请日期 |
2009.12.28 |
申请人 |
富士施乐株式会社 |
发明人 |
三锅治郎;立石彰;河野克典;安田晋;小笠原康裕;林和广 |
分类号 |
B41J2/45(2006.01)I;G03G15/00(2006.01)I |
主分类号 |
B41J2/45(2006.01)I |
代理机构 |
北京三友知识产权代理有限公司 11127 |
代理人 |
李辉 |
主权项 |
一种曝光装置,所述曝光装置包括:发光元件阵列,在所述发光元件阵列中,发出通过扩散光的光路的光的多个发光元件一维或二维地排列在基板上;以及全息元件阵列,在所述全息元件阵列中,多个全息元件形成在位于所述基板上的全息记录层中的分别对应于所述多个发光元件的位置,以在全部所述多个发光元件的照射区域的外侧衍射并会集从所述多个发光元件分别发出的各光。 |
地址 |
日本东京都 |