发明名称 背光结构
摘要
申请公布号 TWI331694 申请公布日期 2010.10.11
申请号 TW095134928 申请日期 2006.09.21
申请人 财团法人工业技术研究院 发明人 林明德;黄胜邦;殷尚彬;姜雅惠;林明耀
分类号 G02F1/13357 主分类号 G02F1/13357
代理机构 代理人 陈昭诚 台北市中正区博爱路35号9楼
主权项 一种背光结构,系包括复数个背光装置,藉由该复数背光装置以接续的方式形成大尺寸之背光面积,该背光装置至少包括:发射部,系用以提供发光二极体光源,该发射部具有面对该发光二极体光源之第一反射面,用以将该光源进行混光;以及导光部,系用以将经该发射部混光后之光线均匀导出,该导光部具有第一端面及与该第一端面相对向之第二端面,且该第二端面与该发射部连接形成断差结构;其中,该光源仅透过该第一反射面反射至该导光部之圆弧状导光面以由该圆弧状导光面将该光线导出该导光部,至少一背光装置之第二端面及发射部连接形成之断差结构系与另一背光装置之第一端面接合。如申请专利范围第1项之背光结构,其中,该导光部系为具有斜面形状之导光材料。如申请专利范围第2项之背光结构,其中,该斜面形状之厚度系随着该光源之入射面距离的增加而减少。如申请专利范围第1项之背光结构,其中,该断差结构系为阶梯式之断差结构。如申请专利范围第1项之背光结构,其中,该导光部具有与该发射部相连之该圆弧状导光面及与该圆弧状导光面相对向之出光面。如申请专利范围第1项之背光结构,其中,该圆弧状导光面系为经粗化处理及印刷处理形成散射结构。如申请专利范围第1项之背光结构,其中,该背光结构系将该背光装置之第二端面与该另一背光装置之第一端面接合之处移除而形成一通道,用以使该背光装置之光线与该另一背光装置之光线互相穿透增加均匀度。一种背光结构组,包括复数个如申请专利范围第1项至第7项任一项之背光结构,系藉由2个背光结构以第一端面对第一端面之接续方式形成大尺寸之背光面积,该第一端面为未与另一背光装置之第二端面及发射部连接形成之断差结构接合之端面。一种背光结构,系包括复数个背光装置,藉由该复数个背光装置以接续的方式形成大尺寸之背光面积,该背光装置至少包括:发射部,系用以提供发光二极体光源,该发射部具有面对该发光二极体光源之第一反射面;反射部,系具有延伸部及反射面,俾该延伸部将该发射部所提供之光源进行混光,令该反射面将经该延伸部均匀混光后之光线反射;以及导光部,系用以将经由该反射部反射之光线均匀导出,导光部具有第一端面及与该第一端面相对向之第二端面,且该第二端面与该反射部连接形成断差结构;其中,该光源仅透过该第一射面反射至该反射部进行混光,且经由该导光部之圆弧状导光面将该光线导出该导光部,至少一背光装置之第二端面及反射部连接形成之断差结构系与另一背光装置之第一端面接合。如申请专利范围第9项之背光结构,其中,该反射部系以180度将混光后之光线反射至该导光部。如申请专利范围第9项之背光结构,其中,该导光部系为具有斜面形状之导光材料。如申请专利范围第11项之背光结构,其中,该斜面形状之厚度系随着该光源之入射面距离的增加而减少。如申请专利范围第9项之背光结构,其中,该导光部与该反射部系为一体成形之结构。如申请专利范围第9项之背光结构,其中,该背光结构系将该背光装置之第二端面与该另一背光装置之第一端面接合之处移除而形成一通道,用以使该背光装置之光线与该另一背光装置之光线互相穿透增加均匀度。如申请专利范围第9项之背光结构,其中,该断差结构系为阶梯式之断差结构。如申请专利范围第9项之背光结构,其中,该导光部具有与该反射部相连之该圆弧状导光面及与该圆弧状导光面相对向之出光面。如申请专利范围第9项之背光结构,其中,该圆弧状导光面系为经粗化处理及印刷处理形成散射结构。一种背光结构组,包括复数个如申请专利范围第10项至第17项任一项之背光结构,系藉由2个背光结构以第一端面对第一端面之接续方式形成大尺寸之背光面积,该第一端面为未与另一背光装置之第二端面及反射部连接形成之断差结构接合之端面。
地址 新竹县竹东镇中兴路4段195号