发明名称 黏土薄膜之制造方法及黏土薄膜
摘要
申请公布号 TWI331555 申请公布日期 2010.10.11
申请号 TW095134817 申请日期 2006.09.20
申请人 巴川制纸所股份有限公司 日本;独立行政法人产业技术总合研究所 日本 发明人 津田统;井上智仁;茂木克己;蛯名武雄;水上富士夫
分类号 B28C3/00 主分类号 B28C3/00
代理机构 代理人 周良谋 新竹市东大路1段118号10楼;周良吉 新竹市东大路1段118号10楼
主权项 一种黏土薄膜,其系由黏土或是黏土与添加剂所构成,并具有黏土粒子定向堆叠构造,其特征为,该黏土薄膜的表面粗度Ra在100nm以下。如申请专利范围第1项之黏土薄膜,其中,黏土薄膜之最大高度Ry值在500nm以下。如申请专利范围第1项或第2项之黏土薄膜,其中,就该黏土薄膜的透明性而言,其全光线透射率在80%以上,且浊雾度在5%以下。如申请专利范围第1项或第2项之黏土薄膜,其中,该黏土薄膜系长条形。如申请专利范围第1项或第2项之黏土薄膜,其中,该黏土薄膜系由下列步骤所制成的:一糊浆制作步骤,将黏土或是黏土与添加剂分散于由水、有机溶剂或是水与有机溶剂的混合溶媒所制成的分散媒介中,以制作出黏土糊浆;一涂布步骤,将该黏土糊浆涂布于基材上以形成薄膜;一平坦化步骤,使该薄膜平坦化;一乾燥步骤,自该薄膜除去水、有机溶剂或是水与有机溶剂;及一剥离步骤,自该基材剥离该薄膜。
地址 日本;日本