| 主权项 |
一种系统，其包含：一基板平台，其系配置以定位一基板，以接收来自一微影系统之一曝光部分的一曝光光束；以及一精密测定专用平台，于其上具有一感应器系统，该感应系统系配置以侦测该曝光系统或该曝光光束之参数，其中该感应器系统包括一杂散光感应器、一狭缝均匀性感应器、一相对偏振感应器、一切趾感应器、一绝对偏振感应器、一影像品质感应器或一波前像差感应器；其中该精密测定专用平台比该基板平台薄。如请求项1之系统，其中该偏振感应器包括：一四分之一波长板；一准直透镜；一偏光器；以及一电荷耦合器件阵列。如请求项1之系统，其中该切趾感应器包括：于曝光光学元件之下的一中继透镜；以及一电荷耦合器件阵列，光学上与该曝光光学元件之一光瞳共轭。如请求项1之系统，其中该杂散光感应器包括：于其上具有一吸收涂层之一板，其中该涂层形成一环状透光区域；以及一光侦测器，用以感应通过该环状透光区域之光。如请求项1之系统，其进一步包含：一第二基板平台，其系配置以定位一第二基板，以接收来自该微影系统之该曝光部分的该曝光光束。如请求项1之系统，其中该精密测定专用平台系小于该基板之一直径。一种微影系统，其包含：一照明系统，其产生一辐射光束；一图案器件，其图案化该光束；一投影系统，其将该图案化光束投影于一基板上；一基板平台，其系配置以定位该基板，以接收该图案化光束；以及一精密测定专用平台，于其上具有一感应器系统，该感应系统系配置以侦测该投影系统或该图案化光束之参数，其中该感应器系统包括一杂散光感应器、一狭缝均匀性感应器、一相对偏振感应器、一切趾感应器、一绝对偏振感应器、一影像品质感应器或一波前像差感应器；其中该精密测定专用平台比该基板平台薄。如请求项7之系统，其进一步包含：一第二基板平台，其系配置以定位一第二基板，以接收该图案化光束。如请求项7之系统，其中该精密测定专用平台系小于该基板之一直径。如请求项7之系统，其中该偏振感应器包括：一四分之一波长板；一准直透镜；一偏光器；以及一电荷耦合器件阵列。如请求项7之系统，其中该切趾感应器包括：置于该投影光学元件之下的一中继透镜；以及一电荷耦合器件，光学上与该投影光学元件之一光瞳共轭。如请求项7之系统，其中该杂散光感应器包括：于其上具有一吸收涂层之一板，其中该涂层形成一环状透光区域；以及一光侦测器，用以感应通过该环状透光区域之光。一种测量一微影系统之一曝光部分光学参数的方法，该方法包括：移动一基板平台，使其远离该曝光部分之一光轴；移动一精密测定专用平台，以放置一感应器于该光轴中，其中该精密测定专用平台比该基板平台薄；以及测量来自该曝光系统之光的一光学参数，该光学参数包括杂散光、切趾、狭缝均匀性、相对偏振、绝对偏振、影像品质或波前像差。如请求项13之方法，其中该偏振测量包括：将来自该曝光系统之该光，透射穿透一四分之一波长板、一准直透镜以及一偏光器，然后至一电荷耦合器件阵列上。如请求项13之方法，其中该切趾测量包括：将来自该曝光系统之该光，透射穿透一中继透镜，然后至光学上与该投影光学元件之一光瞳共轭的一电荷耦合器件上。如请求项13之方法，其中该杂散光测量包括：将来自该曝光系统之该光，透射穿透于其上具有一吸收涂层之一板，其中该涂层形成一环状透光区域，然后至用以感应通过该环状透光区域之光的一光侦测器上。 |
