| 主权项 |
一种于处理腔体内用以处理基材的盖组件，包含：一喷头组件，其具有一内部区域以及一外部区域；一电浆筛，其定位于该喷头组件的上方且包含一内面积，该内面积具有复数个孔贯穿其间延伸，该等复数个孔用以引导一第一制程气体至该内部区域，以及一外面积，其具有复数个狭缝，该等复数个狭缝用以引导一第二气体至该外部区域，该外面积围绕该内面积；一绝缘套，其设置于该电浆筛上方并含有一扩展通道(expanding channel)，该扩展通道具有自一上部分至一下部分逐渐增大的一内直径，该扩展通道经配置以自该绝缘套的一上表面将该第一制程气体流动至该电浆筛的该内面积；一第一气体区域，其位于该喷头组件的该内部区域上方，并介于该喷头组件与该电浆筛之间；以及一第二气体区域，其位于该喷头组件的该外部区域上方。如申请专利范围第1项所述之盖组件，其中该盖组件的该内部区域包含一电浆隔板。如申请专利范围第2项所述之盖组件，其中该电浆隔板包含复数个狭缝，其用以分配该第一制程气体通过该盖组件。如申请专利范围第3项所述之盖组件，其中该等狭缝的每一者系配置成与一通过该内部区域中心的垂直轴间有一预定喷射角，并且该预定喷射角介于约20°至约70°之间。如申请专利范围第4项所述之盖组件，其中该预定喷射角介于约40°至约50°之间。如申请专利范围第1项所述之盖组件，更包含一冷却组件，其位于该喷头组件上，其中该冷却组件包含复数个通路，该等复数个通路用于使该第二制程气体自该电浆筛通过至该第二气体区域。如申请专利范围第6项所述之盖组件，其中该第二气体区域位于该冷却组件与该喷头组件之间。如申请专利范围第1项所述之盖组件，其中该内面积更包含一无孔区带。如申请专利范围第1项所述之盖组件，其中该复数个狭缝系垂直或实质垂直于位在该电浆筛之该内面积中的该等复数个孔。如申请专利范围第1项所述之盖组件，其中该外部区域包含复数个孔，其用以分配一第二制程气体通过该喷头组件。如申请专利范围第10项所述之盖组件，其中该等复数个孔中具有至少约1000个孔或更多。如申请专利范围第2项所述之盖组件，其中该电浆隔板可从该喷头组件的该内部区域拆卸下。如申请专利范围第12项所述之盖组件，其中该喷头组件与该电浆隔板各自独立包含一平均粗糙度至少约0.38微米的下表面。如申请专利范围第1项所述之盖组件，其中该绝缘套进一步包含一第二通道，其用以引导该第二制程气体，该第二通道延伸通过该绝缘套并与在该电浆筛之该外面积中的该等复数个狭缝流体连通。一种于处理腔体内用以处理基材的盖组件，包含：一接地气体歧管，其含有至少一个气体线路；一绝缘套，该绝缘套含有一扩展通道(expanding channel)，该扩展通道具有自一上部分至一下部分逐渐增大的一内直径，该扩展通道经配置以接收来自至少该一个气体线路的气体，其中该接地气体歧管定位于该绝缘套上方；一喷头组件，具有一外部区域与一内部区域，该外部区域含有复数个孔，并且该内部区域含有一电浆隔板，该电浆隔板具有复数个狭缝；以及一电浆筛，其定位于该绝缘套与该电浆隔板之间，其中该电浆筛包含用以在该电浆隔板与该通道之间形成一受阻路径的复数个孔，该等复数个孔用以实质减少一电浆通过而同时允许该气体通过。一种用于处理基材的腔体，包含：一基板支撑件，其具有一基材接收表面；一腔体盖组件，其包含：一电浆筛，其包含一上表面以及一外部沟槽，该外部沟槽位于该上表面中并围绕一内部区域；一绝缘套，其定位于该电浆筛之该上表面的上方且具有一第一通道，该第一通道经配置以使一第一制程气体流通通过其中，以及一第二通道，该第二通道经配置以使一第二制程气体流通通过其中，该电浆筛及该绝缘套经耦合在一起以在该电浆筛与该绝缘套之间形成一环状气体通道，该环状气体通道在该外部沟槽与在该绝缘套之下表面中的一凹槽之间延伸并围绕该内部区域，且该第二通道在该绝缘套的下表面内延伸通过该绝缘套至该凹槽；一第一复数个开口，位于该电浆筛的该内部区域中并延伸穿过其间，且该等第一复数个开口经配置以引导该第一制程气体自该电浆筛之该上表面的上方至该电浆筛之一下表面的下方；一第二复数个开口，其自该环状气体通道径向向外延伸，该等第二复数个开口经配置以使一第二制程气体自该环状气体通道流动，且该等第二复数个开口藉由该绝缘套的该下表面以及在该电浆筛之上表面中之复数个径向延伸的狭缝界定；及一制程区域，其设于该基材接收表面以及该腔体盖组件之间。如申请专利范围第16项所述之腔体，其中该等复数个径向延伸狭缝系平行或实质平行于该下表面。如申请专利范围第17项所述之腔体，其中该等复数个径向延伸狭缝系垂直或实质垂直于在该电浆筛的该内部区域中的复数个孔。如申请专利范围第16项所述之腔体，其中该等复数个径向延伸狭缝的每一者具有在0.20mm至0.80mm范围内的一宽度。一种用于处理基材的腔体，包含：一基材支撑件，其具有一基材接收表面；一腔体盖，其包含：一通道，其位于该腔体盖的一中央部份；一锥形底表面，其自该通道延伸至一电浆筛，其置于一电浆挡板及一喷头上方，其中该喷头具有之形状及尺寸系实质覆盖该基材接收表面；一第一导管，其耦接至该通道内的一第一气体入口；及一第二导管，其耦接至该通道内的一第二气体入口，其中该第一导管以及该第二导管经定位以对一制程气体提供一环形气流图案。一种在一制程腔体内处理基材的盖组件，包含：一接地气体歧管，其含有至少一个气体线路；一绝缘套，其含有一第一通道，该第一通道具有自一上部分至一下部分逐渐增大的一内直径，该第一通道经配置以接收来自该至少一个气体线路的一气体，其中该接地气体歧管位于该绝缘套上方。一喷头组件，其具有一内部区域及外部区域，其中该外部区域包含复数个孔。一冷却组件，其定位于该喷头组件上；一电浆挡板，其定位于该喷头组件的该内部区域中且具有复数个狭缝以相对于通过该内部区域中心之一垂直轴的一预定角度延伸通过该电浆挡板；及一电浆筛，其定位于该绝缘套与该喷头组件之间，其中该电浆筛包含复数个孔，该等复数个孔用以引导一第一制程气体至该电浆挡板以及一第二制程气体至该外部区域。如申请专利范围第21项所述之盖组件，其中该冷却组件包含复数个通路，该等复数个通路导入位于该冷却组件与该喷头组件之间的一第二气体区域，其中该等复数个通路提供该电浆筛与该第二气体区域之间的流体连通。如申请专利范围第21项所述之盖组件，其中该绝缘套进一步包含一第二通道，其经配置以将该第二制程气体自一第二气体线路流动。如申请专利范围第21项所述之盖组件，其中该预定角度在自约20°至约70°的范围内。如申请专利范围第21项所述之盖组件，其中该第一通道具有一内直径，其自该第一通道的一上部分至一下部分逐渐增加。 |
