发明名称 电解制氢装置结构改良
摘要
申请公布号 TWM390321 申请公布日期 2010.10.11
申请号 TW099204519 申请日期 2010.03.15
申请人 林文昱 发明人 林文昱
分类号 C25B1/02 主分类号 C25B1/02
代理机构 代理人 周淑萍 台北市中山区松江路80号10楼B
主权项 一种电解制氢装置结构改良,系包括:一电解槽,其为一气密之容器体,其内部空间分隔为一正极电解槽及两负极电解槽,其中两负极电解槽与正极电解槽相互邻设,且于正极电解槽与负极电解槽间设有隔膜,且于对应正极电解槽及各负极电解槽之顶部分别设有一气阀;一正极电解件,其对应设于正极电解槽之中,其连接于一正电直流供电电极,其为具有高氧化性之金属所制;两负极电解件,其对应设于负极电解槽中,其连接于一负电直流供电电极;一加压装置,其连接于电解槽且连通于电解槽之内部空间,故可于电解过程中对电解槽加压。如申请专利范围第1项所述之电解制氢装置结构改良,其中正极电解件之结构为呈复数层螺旋状之弯折薄片体,螺旋状片体各层之间分散地设有复数之间隔颗粒以确保各螺旋层间具有空隙;且负极电解件之结构为呈复数层螺旋状之弯折薄片体,螺旋状片体各层之间分散地设有复数之间隔颗粒以确保各螺旋层间具有空隙。如申请专利范围第1项所述之电解制氢装置结构改良,其中正、负极电解件之结构为复数支呈横竖阵列连接配置之中空管状件。如申请专利范围第1至3项任一项所述之电解制氢装置结构改良,其中负极电解件于片体上可设有带磁性之金属线或条、片、块等结构。如申请专利范围第1至3项任一项所述之电解制氢装置结构改良,其中正极电解件之材质可为铁、钴、镍、锌、铜、铝等,负极电解件之材质可为白金。如申请专利范围第4项所述之电解制氢装置结构改良,其中正极电解件之材质可为铁、钴、镍、锌、铜、铝等,负极电解件之材质可为白金。如申请专利范围第1或3项任一项所述之电解制氢装置结构改良,其中隔膜为现有技术中之离子交换半透膜。如申请专利范围第4项所述之电解制氢装置结构改良,其中隔膜为现有技术中之离子交换半透膜。如申请专利范围第5项所述之电解制氢装置结构改良,其中隔膜为现有技术中之离子交换半透膜。如申请专利范围第6项所述之电解制氢装置结构改良,其中隔膜为现有技术中之离子交换半透膜。如申请专利范围第1至3项任一项所述之电解制氢装置结构改良,其中正极电解槽之底部处设有一沉淀池,于沉淀池内设有至少一个多孔隙吸附件。如申请专利范围第4项所述之电解制氢装置结构改良,其中正极电解槽之底部处设有一沉淀池,于沉淀池内设有至少一个多孔隙吸附件。如申请专利范围第5项所述之电解制氢装置结构改良,其中正极电解槽之底部处设有一沉淀池,于沉淀池内设有至少一个多孔隙吸附件。如申请专利范围第6项所述之电解制氢装置结构改良,其中正极电解槽之底部处设有一沉淀池,于沉淀池内设有至少一个多孔隙吸附件。如申请专利范围第7项所述之电解制氢装置结构改良,其中正极电解槽之底部处设有一沉淀池,于沉淀池内设有至少一个多孔隙吸附件。如申请专利范围第8项所述之电解制氢装置结构改良,其中正极电解槽之底部处设有一沉淀池,于沉淀池内设有至少一个多孔隙吸附件。如申请专利范围第9项所述之电解制氢装置结构改良,其中正极电解槽之底部处设有一沉淀池,于沉淀池内设有至少一个多孔隙吸附件。如申请专利范围第10项所述之电解制氢装置结构改良,其中正极电解槽之底部处设有一沉淀池,于沉淀池内设有至少一个多孔隙吸附件。
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