| 主权项 |
一种系统，包含：一第一室，包含一元件，其基于一第一气体发射光；一第二室，其使用该发射光以执行一处理，并包含一第二气体；一气阻，其耦接该第一室至该第二室；及一气体源，其供给一第三气体于该气阻中之该第一及第二气体之间，使得在该气阻内该第一气体与该第二气体分隔，该气阻包含形成有一阻障的一区域，该阻障系藉由该第三气体的流动在该第一及第二气体之间所形成。如申请专利范围第1项之系统，其中，该第一气体系由氙、锂蒸汽、锡、氪及水蒸汽所构成之群组中选出。如申请专利范围第1项所述之系统，其中该第二气体系由氦、氩、氢及氮所构成之群组中所选出。如申请专利范围第1项所述之系统，其中该第三气体系由氦、氖及氮所构成之群组中所选出。如申请专利范围第1项所述之系统，更包含：一泵，其由第一室抽出第一及第三气体；及一回圈装置，其将第一气体与第三气体分离，使得第一气体被再使用以形成发射光。如申请专利范围第5项所述之系统，其中该泵及回圈装置系定位在第一室外。如申请专利范围第1项所述之系统，其中该元件发射出极端远紫外光。如申请专利范围第1项所述之系统，其中该第一室包围住一电浆光源。如申请专利范围第8项所述之系统，其中该电浆光源産生极端远紫外光。一种系统，包含：一光源室，具有一第一气体；一光学室，具有一第二气体；一第一机构，用以耦接该光源室至该光学室；及一第二机构，用以将一第三气体传送经该第一机构，以将该第一气体与该第二气体分隔开，该第一机构包含形成有一阻障的一区域，该阻障系藉由该第三气体的流动在该第一及第二气体之间形成。如申请专利范围第10项之系统，其中，该第一气体系由氙、锂蒸汽、锡、氪及水蒸汽所构成之群组中选出。如申请专利范围第10项所述之系统，其中该第二气体系由氦、氩、氢及氮所构成之群组中所选出。如申请专利范围第10项所述之系统，其中该第三气体系由氦、氖及氮所构成之群组中所选出。如申请专利范围第10项所述之系统，更包含：一泵，其由第一室该光源室抽出第一及第三气体；及一回圈装置，其将第一气体与第三气体分离，使得第一气体被再使用以形成发射光。如申请专利范围第14项所述之系统，其中该泵及回圈装置系定位在该光源室外。如申请专利范围第10项所述之系统，其中该光源室发射出极端远紫外光。如申请专利范围第10项所述之系统，其中该光源室包围住一电浆光源。如申请专利范围第17项所述之系统，其中该电浆光源産生极端远紫外光。一种方法，包含步骤：(a)以一第一气体産生光；(b)以一第二气体处理光学件；及(c)以一第三气体将该第一气体与该第二气体分隔开，该第三气体流经该第一及第二气体之间，以在该第一及第二气体之间形成一阻障。如申请专利范围第19项所述之方法，其中，该第一气体系由氙、锂蒸汽、锡、氪及水蒸汽所构成之群组中选出。如申请专利范围第19项所述之方法，其中该第二气体系由氦、氩、氢及氮所构成之群组中所选出。如申请专利范围第19项所述之方法，其中该第三气体系由氦、氖及氮所构成之群组中所选出。如申请专利范围第19项所述之方法，更包含将第一气体与第三气体分离，并回圈再用该第一气体。如申请专利范围第19项所述之方法，其中该産生步骤(a)産生极端远紫外光。如申请专利范围第19项所述之方法，其中该处理步骤(b)降低于光学室内之污染。如申请专利范围第19项所述之方法，其中该处理步骤(b)保护于光学室内之光学件。 |
