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发明名称
PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, COMPOUND FOR USE IN THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
摘要
申请公布号
KR100987093(B1)
申请公布日期
2010.10.11
申请号
KR20050085857
申请日期
2005.09.14
申请人
发明人
分类号
G03F7/004;G03F7/00
主分类号
G03F7/004
代理机构
代理人
主权项
地址
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