| 摘要 |
Dispositivo 1 para la realización de un curado de revestimientos sobre un sustrato S en atmósfera de gases inertes, que contiene - recubrimientos laterales 2, 3, 4 y 5, - recubrimientos superiores e inferiores 6 y 7, en donde 2, 3, 4, 5, 6 y 7 encierran conjuntamente un espacio interior, - una o múltiples paredes divisorias 8 que subdividen el interior, en donde las paredes divisorias 8 se unen con el recubrimiento inferior 7 y mantienen una distancia d1 con respecto al recubrimiento superior 6, - una o múltiples paredes divisorias 9 que subdividen el interior, en donde las paredes divisorias 9 se unen con el recubrimiento superior 6 y mantienen una distancia d2 con respecto al recubrimiento inferior 7, - en donde 8 y 9 conforman con la respectiva pared divisoria adyacente 9 u 8 y, eventualmente, con los recubrimientos laterales 2 o 3, un espacio interior subdividido (compartimento), - al menos, una fuente de radiación 10 dentro del interior y/o que penetra en el interior, - al menos, un dispositivo de suministro de gas 11, con el cual se puede conducir un gas o una mezcla de gases hacia el interior o puede formarse allí, - al menos, un dispositivo de transporte 12 para el sustrato S, - entrada 13 y - salida 14, en donde - las paredes divisorias 8 se encuentran esencialmente perpendiculares sobre el recubrimiento inferior 7, - las paredes divisorias 9 se encuentran esencialmente perpendiculares sobre el recubrimiento superior 6, - las distancias d1 y d2, así como el ancho b del dispositivo 1 están seleccionados de modo tal que sean mayores que las dimensiones del sustrato S a lo largo de la dirección de avance del dispositivo de transporte 12 y - mediante los dispositivos 2, 3, 8 y 9 se forman, al menos, 4 compartimentos.
|
