发明名称 Verfahren zur Texturierung von Siliziumwafern für Solarzellen und Behandlungsflüssigkeit dafür
摘要 <p>Bei einem Verfahren zur Behandlung von Siliziumwafern für die Herstellung von Solarzellen wird auf die Oberfläche der Siliziumwafer eine Behandlungsflüssigkeit aufgebracht zur Texturierung. Die Behandlungsflüssigkeit weist als ein Additiv Ethylhexanol oder Cyclohexanol mit 0,5 Gew.-% bis 3 Gew.-% auf.</p>
申请公布号 DE102009012827(A1) 申请公布日期 2010.10.07
申请号 DE20091012827 申请日期 2009.03.03
申请人 GEBR. SCHMID GMBH & CO. 发明人 MAHER, IZAARENE
分类号 H01L21/306;C23F1/14;C23F1/24;C23F1/32;H01L31/0236;H01L31/18 主分类号 H01L21/306
代理机构 代理人
主权项
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