圆形基片的抛光、清洗装置和方法

摘要

本发明涉及一种圆形基片的抛光、清洗装置和方法。该装置包括抛光清洗组件，基片导向组件，基片驱动组件。基片由基片传送组件，经基片导向组件，在抛光清洗组件的旋转下，导入抛光清洗组件。基片驱动组件驱动基片旋转，液体注入组件供给化学抛光液体和清洗液体，对基片进行抛光清洗处理。在基片抛光清洗后，改变抛光清洗组件的旋转方向，基片从抛光清洗组件中导出，经基片导向组件被导入基片传送组件。本发明所公开装置可以独立机构操作运行，也可以作为一大型基片抛光清洗系统的模块而使用。可以将单基片单一工位的抛光清洗单元组合成多基片多工位系统对基片进行成批抛光清洗处理。

主权项

一种用于处理圆形基片的抛光、清洗的装置，包括：抛光清洗组件，用于对基片进行抛光清洗处理；基片导向组件，用于引导基片在装置中的传递；以及基片驱动组件，用于支撑基片及驱动基片旋转；其中，抛光清洗组件相邻排列，基片导向组件布置在抛光清洗组件的一侧，与抛光清洗组件配合引导基片在装置中的传递，基片驱动组件布置在抛光清洗组件的另一侧。