发明名称 投影装置
摘要 一种投影装置,包括第一激光光源,提供具有高相干性的第一光束;第二激光光源,提供具有高相干性的第二光束;第三激光光源,提供具有高相干性的第三光束;合光元件,包括第一表面,其中,所述第一光束、所述第二光束和所述第三光束入射至所述合光元件,并在所述合光元件混成混成光束;扩散片,设在所述合光元件的所述第一表面上,供所述第一光束、所述第二光束和所述第三光束入射;以及致动元件,连接所述合光元件,以致动所述合光元件,用于改变所述第一光束、所述第二光束和所述第三光束入射至所述扩散片的位置。
申请公布号 CN101477295B 申请公布日期 2010.10.06
申请号 CN200810001950.0 申请日期 2008.01.04
申请人 中强光电股份有限公司 发明人 王俊勋
分类号 G03B21/00(2006.01)I;G03B21/14(2006.01)I;G02B5/02(2006.01)I;H04N9/31(2006.01)I 主分类号 G03B21/00(2006.01)I
代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人 王英
主权项 一种投影装置,包括:第一激光光源,提供具有高相干性的第一光束;第二激光光源,提供具有高相干性的第二光束;第三激光光源,提供具有高相干性的第三光束;合光元件,包括第一表面,其中,所述第一光束、所述第二光束和所述第三光束入射至所述合光元件,并在所述合光元件混成混成光束;扩散片,设在所述合光元件的所述第一表面上,供所述第一光束、所述第二光束和所述第三光束入射;以及致动元件,连接所述合光元件,以致动所述合光元件,用于改变所述第一光束、所述第二光束和所述第三光束入射至所述扩散片的位置。
地址 中国台湾新竹科学工业园区