半导体器件清洗装置及清洗方法

摘要

本发明提供半导体器件清洗装置和清洗方法，所述装置通过增设送气单元，向第一水槽内输送气体，从而增加第一水槽内纯水的气体含量，从而使含较高气体含量的纯水与超声波发生装置结合，增加超声波清洗半导体器件的效果和效率；所述清洗方法，在纯水清洗半导体器件之前，向纯水中通入气体，从而增加超声波清洗半导体器件的效果和效率；本发明解决了超声波清洗半导体器件效率低、效果差的技术问题。

主权项

一种半导体器件清洗装置，包括第一水槽和第二水槽，所述第一水槽上设有排气管和进水口，所述排气管上设有第一阀门，所述第一水槽和所述第二水槽之间设有第一连接管，所述第一连接管上设有第二阀门，所述第二水槽上设有进气管，所述第二水槽上还设有与工艺腔连接的第二连接管，所述第二连接管上设有第三阀门；其特征在于，所述第一水槽还连接送气单元，用于向所述第一水槽输送气体。