| 发明名称 | 投射设备 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种投射设备，该投射设备包括：产生投射用光的发光二极管(LED)；耦合到所述发光二极管以向所述发光二极管供给功率的电源；热耦合到所述发光二极管的冷却系统；提供关于从所述发光二极管输出的光量的信息的光输出监测器；以及耦合到所述电源、所述冷却系统、及所述光输出监测器的处理器，其被配置为至少部分地基于从所述光输出监测器所提供的信息来至少控制所述电源和所述冷却系统。 | ||
| 申请公布号 | CN101852976A | 申请公布日期 | 2010.10.06 |
| 申请号 | CN200910265985.X | 申请日期 | 2005.05.06 |
| 申请人 | 精工爱普生株式会社 | 发明人 | T·斯科特·恩格尔;大卫·E·斯洛博丁 |
| 分类号 | G03B21/16(2006.01)I | 主分类号 | G03B21/16(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人 | 陈海红;刘瑞东 |
| 主权项 | 一种投射设备，该投射设备包括：产生投射用光的发光二极管(LED)；耦合到所述发光二极管以向所述发光二极管供给功率的电源；热耦合到所述发光二极管的冷却系统；提供关于从所述发光二极管输出的光量的信息的光输出监测器；以及耦合到所述电源、所述冷却系统、及所述光输出监测器的处理器，其被配置为至少部分地基于从所述光输出监测器所提供的信息来至少控制所述电源和所述冷却系统。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||