| 发明名称 | 适合用来除去光刻胶、光刻胶副产物和蚀刻残余物的组合物及其应用 | ||
| 摘要 | 包含某些胺和/或季铵化合物、羟胺、缓蚀剂、有机稀释剂和任选的水的组合物，能够从基片上除去光刻胶、光刻胶副产物和残余物，以及蚀刻残余物。 | ||
| 申请公布号 | CN1813223B | 申请公布日期 | 2010.10.06 |
| 申请号 | CN200480018439.1 | 申请日期 | 2004.05.24 |
| 申请人 | 空气产品及化学制品股份有限公司 | 发明人 | J·M·里克尔;T·维德;D·L·德拉姆 |
| 分类号 | G03F7/26(2006.01)I;G03F7/30(2006.01)I;G03F7/32(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/26(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人 | 朱黎明 |
| 主权项 | 一种不含链烷醇胺的组合物，所述组合物包含：a)25-75重量％的至少一种胺，它选自氨基烷基吗啉和氨基烷基哌嗪，所述烷基是具有1-8个碳原子的直链或支链未取代的烷基；b)10-25重量％的羟胺；c)0-32重量％的有机稀释剂；d)10-30重量％的水；e)1-25重量％的腐蚀抑制剂；所述组合物的pH大于7。 | ||
| 地址 | 美国宾夕法尼亚州 | ||