发明名称 一种去除磷和金属杂质的提纯硅的方法
摘要 本发明涉及一种去除磷和金属杂质的提纯硅的方法。其包括以下步骤:将封密式提纯炉内净化,加热熔融封密式提纯炉石墨坩锅内的金属硅;对呈熔融状态的金属硅溶液喷吹预热的O2和Ar混合气体;停止吹入O2和Ar混合气体,通过硅液底部骤冷,使其从底部向上进行定向凝固;硅锭出炉,去四周及头尾完成提纯得到高纯度的多晶硅。与现有技术相比,本发明通过直流电弧放电加热硅熔化成液态,同时底部吹预热的O2和Ar实现搅拌作用,让具有高发挥系数的磷等杂质去除;搅拌时间达到设定值后,从底部向上进行定向凝固,完成了对硅去磷除金属的提纯。本发明是一种低成本、工艺简单、无环境污染问题,改进了硅材料的性能、是一种易于产业化的硅提纯的制作工艺和制作方法。
申请公布号 CN101850975A 申请公布日期 2010.10.06
申请号 CN200910048704.5 申请日期 2009.04.01
申请人 高文秀 发明人 高文秀;赵百通
分类号 C01B33/037(2006.01)I 主分类号 C01B33/037(2006.01)I
代理机构 上海京沪专利代理事务所(普通合伙) 31235 代理人 周志宏
主权项 一种去除磷和金属杂质的提纯硅的方法,其特征在于,包括以下步骤:步聚1,将封密式提纯炉内净化,加热熔融封密式提纯炉石墨坩锅内的金属硅;步骤2,对呈熔融状态的金属硅溶液喷吹预热的O2和Ar混合气体;步骤3,停止吹入O2和Ar混合气体,通过硅液底部骤冷,使其从底部向上进行定向凝固;步骤4,硅锭出炉,去头尾完成提纯得到高纯度的多晶硅。
地址 200083 上海市虹口区玉田路500号