| 发明名称 | 等离子体处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明的目的在于提供一种能够高效率地利用所产生的等离子体的等离子体处理装置。本发明的等离子体处理装置(10)的特征在于，具备：真空容器(11)；设置成向真空容器(11)的内部空间(111)突出的天线(等离子体产生机构)支承部(12)；安装于天线支承部(12)的高频天线(等离子体产生机构)(13)。由此，安装高频天线的部分的面积变小，等离子体的利用效率提高。 | ||
| 申请公布号 | CN101855947A | 申请公布日期 | 2010.10.06 |
| 申请号 | CN200880115832.0 | 申请日期 | 2008.11.12 |
| 申请人 | EMD株式会社 | 发明人 | 节原裕一;江部明宪 |
| 分类号 | H05H1/46(2006.01)I;C23C16/505(2006.01)I;H01L21/3065(2006.01)I | 主分类号 | H05H1/46(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 李贵亮 |
| 主权项 | 一种等离子体处理装置，其特征在于，具备：a)真空容器；b)设置成向所述真空容器的内部空间内突出的等离子体产生机构支承部；c)安装于所述等离子体产生机构支承部的一个或多个等离子体产生机构。 | ||
| 地址 | 日本京都府 | ||