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一种喷嘴改良结构，包含一喷嘴本体，该喷嘴本体包括一上部、一颈部及一贯孔，该上部系呈漏斗状并向下朝内逐渐内缩，该颈部系接续于该上部并由该上部向下延伸，该贯孔系贯穿该上部与该颈部，该上部并包含一顶面，该顶面朝向该贯孔凸伸有复数个凸缘，每一凸缘之间并彼此间隔出一流道，该等流道系连通于该贯孔。如申请专利范围第1项所述之喷嘴改良结构，其中，该复数个凸缘系以等角度环绕朝向该贯孔凸伸。如申请专利范围第2项所述之喷嘴改良结构，其中，该复数个凸缘之数量系为八个并彼此间隔出八个流道。如申请专利范围第3项所述之喷嘴改良结构，其中，该复数个凸缘之每一个的横向宽度系为2mm。如申请专利范围第2项所述之喷嘴改良结构，其中，该复数个凸缘之数量系为三个并彼此间隔出三个流道。如申请专利范围第5项所述之喷嘴改良结构，其中，该复数个凸缘之每一个的横向宽度系为2mm。如申请专利范围第1至6项中任一项所述之喷嘴改良结构，其中，该复数个凸缘之每一个分别包含一前端，且两相邻凸缘之前端相距的间隔系为1mm。如申请专利范围第7项所述之喷嘴改良结构，其中，该喷嘴本体系为一抗静电矽胶喷嘴本体。如申请专利范围第8项所述之喷嘴改良结构，其中，该颈部并凹设有一环凹槽。如申请专利范围第7项所述之喷嘴改良结构，其中，该贯孔之直径系为10mm。 |
