发明名称 具有适应性边缘门槛值之反交错系统及方法
摘要
申请公布号 TWI331473 申请公布日期 2010.10.01
申请号 TW096109660 申请日期 2007.03.21
申请人 凌阳科技股份有限公司 发明人 苏德松;陈衍霖
分类号 H04N7/01 主分类号 H04N7/01
代理机构 代理人 吴冠赐 台北市松山区敦化北路102号9楼;林志鸿 台北市松山区敦化北路102号9楼;杨庆隆 台北市松山区敦化北路102号9楼
主权项 一种具有适应性边缘门槛值之反交错系统,该反交错系统接收复数个图场所组成之一影像资料流,该每一图场系由一个二维阵列的像素所组成并利用复数个列方向像素进行排列,该反交错系统系加入复数个像素系用以增加该图场之解析度,其中,加入的前述每一像素系位在该图场之一位置,该反交错系统包含:一移动因子产生装置,接收一现行图场之前一个图场及下一个图场,用以产生该位置之一移动因子,该移动因子产生装置更包含:一移动差值计算装置,接收该前一个图场及该下一个图场,用以产生该位置之一移动差值;一历史移动值产生装置,其耦合至该移动差值计算装置,依据该移动差值及该位置之一历史因子,用以计算该位置之一现行奇数图场历史因子及一现行偶数图场历史因子;以及一移动因子比较装置,耦合至该历史移动值产生装置,用以从该位置之该现行奇数图场历史移动值及该现行偶数图场历史因子进行选择,用以作为该移动因子;一适应性边缘门槛值产生装置,接收前述现行图场、前述前一个图场及前述下一个图场,用以产生该位置之一适应性边缘门槛值;以及一判断装置,耦合至该移动因子产生装置及该适应性边缘门槛值产生装置,依据该位置之该移动因子、该适应性边缘门槛值,用以决定该位置欲插置之像素;其中,当该移动因子大于该适应性边缘门槛值时,利用该现行图场之像素进行该位置欲插置像素之补点,当该移动因子小于该适应性边缘门槛值时,利用该前一个图场及该下一个图场之像素进行该位置欲插置像素之补点。如申请专利范围第1项所述之反交错系统,其中,该历史移动值产生装置更包含:一记忆装置,用以储存该前一个图场之每一像素的历史因子。如申请专利范围第2项所述之反交错系统,其中,该每一像素的历史因子包含一奇数图场历史因子及一偶数图场历史因子。如申请专利范围第3项所述之反交错系统,其中,当该现行图场为一奇数图场时,该位置之该现行奇数图场历史因子为该记忆装置中储存前一个图场相对于该位置之该奇数图场历史因子。如申请专利范围第4项所述之反交错系统,其中,当该现行图场为前述奇数图场时,该位置之该现行偶数图场历史因子为该移动差值和该记忆装置中储存前一个图场相对于该位置之该偶数图场历史因子进行加权运算之结果。如申请专利范围第3项所述之反交错系统,其中,当该现行图场为一偶数图场时,该位置之该现行偶数图场历史因子为该记忆装置中储存前一个图场相对于该位置之该偶数图场历史因子。如申请专利范围第5项所述之反交错系统,其中,当该现行图场为前述偶数图场时,该位置之该现行奇数图场历史因子为该移动差值和该记忆装置中储存前一个图场相对于该位置之该奇数图场历史因子进行加权运算之结果。如申请专利范围第1项所述之反交错系统,其中,该适应性边缘门槛值产生装置更包含:一边缘产生装置,接收该现行图场、该前一个图场及该下一个图场以产生该位置之一边缘值;以及一查表装置,耦合至该边缘产生装置,用以依据该位置之该边缘值,产生该位置之该适应性边缘门槛值。一种具有适应性边缘门槛值之插值方法,该插值方法接收具有复数个图场所组成之一影像资料流,该每一图场系由一个二维阵列的像素所组成并利用复数个列方向像素排列,该插值方法系加入复数个像素以增加该图场解析度,其中,加入之该每一像素系位在该图场之一位置,该插值方法包含:一移动因子产生步骤,接收一现行图场之前一个图场及下一个图场,以产生该位置之一移动因子,该移动因子产生步骤更包含:一移动差值计算步骤,接收该前一个图场及该下一个图场,用以产生该位置之一移动差值;一历史移动值产生步骤,依据该移动差值及该位置之一历史因子,用以计算该位置之一现行奇数图场历史因子及一现行偶数图场历史因子;以及一移动因子比较步骤,依据该位置之该现行奇数图场历史因子及该现行偶数图场历史因子选择以作为该移动因子;一适应性边缘门槛值产生步骤,接收该现行图场、该前一个图场及该下一个图场,以产生该位置之一适应性边缘门槛值;以及一判断步骤,依据该位置之该移动因子、该适应性边缘门槛值,用以决定该位置欲插置之像素;其中,当该移动因子大于该适应性边缘门槛值时,利用该现行图场之像素进行该位置欲插置像素之补点,当该移动因子小于该适应性边缘门槛值时,利用该前一个图场及该下一个图场之像素进行该位置欲插置像素之补点。如申请专利范围第9项所述之插值方法,其中,该每一像素的历史因子包含一奇数图场历史因子及一偶数图场历史因子。如申请专利范围第10项所述之插值方法,其中,当该现行图场为一奇数图场时,该位置之该现行奇数图场历史因子为前一个图场相对于该位置之该奇数图场历史因子。如申请专利范围第11项所述之插值方法,其中,当该现行图场为前述奇数图场时,该位置之该现行偶数图场历史因子为该移动差值和前一个图场相对于该位置之偶数图场历史因子之进行加权运算所得。如申请专利范围第10项所述之插值方法,其中,当该现行图场为一偶数图场时,该位置之该现行偶数图场历史因子为该前一个图场相对于该位置之该偶数图场历史因子。如申请专利范围第13项所述之插值方法,其中,当该现行图场为前述偶数图场时,该位置之该现行奇数图场历史因子为该移动差值和该前一个图场相对于该位置之该奇数图场历史因子进行加权运算所得。如申请专利范围第9项所述之插值方法,其中,该适应性边缘门槛值产生步骤更包含:一边缘产生步骤,依据该现行图场、该前一个图场及该下一个图场,以产生该位置之一边缘值;以及一查表步骤,依据该位置之该边缘值,以产生该位置之该适应性边缘门槛值。
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