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一种洗净液，系为浸液式曝光制程中用以洗净曝光装置之洗净液，其特征系含有5~30质量%之碳数5~25之由聚氧化乙烯烷基醚类、聚氧化乙烯山梨糖醇酸酯类、聚氧化乙烯脂肪酸酯类、聚氧化乙烯乙炔乙二醇醚类之中所选出之至少1种非离子系界面活性剂以及1~30质量%之有机溶剂与剩余部分为水之洗净液。如申请专利范围第1项之洗净液，其中，含有7~25质量%之非离子系界面活性剂。如申请专利范围第1项之洗净液，其中，该曝光装置之洗净系指曝光时与浸渍液媒介体接触之曝光装置部位之洗净。如申请专利范围第3项之洗净液，其中，该曝光时与与浸渍液媒介体接触之曝光装置部位系为光学镜片部分。如申请专利范围第1项之洗净液，其中，该有机溶剂系为选自于烷醇胺类、烷基胺类、聚烷撑聚胺类、乙二醇类、醚类、酮类、醋酸酯类、以及羧酸酯类中之至少1种。一种洗净方法，其特征系为，使用至少具备有光学镜片部分、晶圆载物台、液体导入流路、液体排出流路之曝光装置，于该光学镜片部分与该晶圆载物台上所载置之曝光对象物之间的空间，经由该液体导入流路导入浸渍液媒介体，持续使该空间充满浸渍液媒介体之同时，经由该液体排出流路，边使浸渍液媒介体排出边进行浸液式曝光之制程中，于曝光后，将如申请专利范围第1项之洗净液，经由上述用以为浸渍液媒介体之导入用相同之导入流路进行导入，使其与光学镜片部份在既定的时间接触下进行洗净，而该使用完毕之洗净液，经由上述用以为浸渍液媒介体之排出用流路相同之排出流路进行排出。一种洗净方法，其特征系为，在曝光装置的光学镜片部分与晶圆载物台上所载置之曝光对象物之间使其充满浸渍液媒介体而进行曝光之浸液式曝光制程中，曝光后，于上述光学镜片部分上使如申请专利范围第1项之洗净液喷出附着，或，以曝浸有该洗净液之布料擦拭上述光学镜片部分，用以洗净该光学镜片部分。 |
