| 主权项 |
一种自动化连续曝光系统，用以对于一基材曝光，该基材置放于一表面上，且光线透过一底片光罩的遮罩，使该基材的一曝光面显影，该自动化连续曝光系统包含：一曝光室；一线性光源，设置于该曝光室中，用以发出一与该曝光面平行之线性光；一控制装置，控制各元件运作以使该基材与该线性光源呈相对移动；一滚筒，其表面覆有该底片光罩，可供该线性光源透光至该基材之曝光面；一驱动装置，电性连接该控制装置及该滚筒，系由该控制装置控制以驱动该滚筒滚动；及一输送装置，电性连接该控制装置，具有一输送带，该输送带之表面用以置放该基材，且由该控制装置控制使该输送带带动该基材相对于该线性光源移动。依据申请专利范围第1项所述之自动化连续曝光系统，更包含：一进料装置，接受该控制装置控制，系装载该基材，且受控自动给予该输送装置进行曝光；及一收料装置，接受该控制装置控制，系收集曝光后的该基材。依据申请专利范围第1或2项所述之自动化连续曝光系统，其中，该控制装置可设定各种相对移动速度或光线强度之参数。依据申请专利范围第1或2项所述之自动化连续曝光系统，其中，该线性光源是一放电光源或一半导体光源。一种自动化连续曝光系统，用以对于一基材曝光，该基材置放于一表面上，且光线透过一底片光罩的遮罩，使该基材的一曝光面显影，该自动化连续曝光系统包含：一曝光室；一线性光源，设置于该曝光室中，用以发出一与该曝光面平行之线性光；一第一卷轴组，卷覆该底片光罩，并受控制而转动；一第二卷轴组，卷覆该基材，并受控制而转动，且该线性光源之光线系透过该底片光罩的遮罩使该基材的曝光面显影；及一控制装置，控制该第一卷轴组及该第二卷轴组转动，进而带动该底片光罩及该基材皆能相对于该线性光源移动。依据申请专利范围第5项所述之自动化连续曝光系统，其中，该第一卷轴组包括一第一卷出轴及一第一卷入轴，该第二卷轴组包括一第二卷出轴及一第二卷入轴；该第一卷出轴及该第一卷入轴分别卷覆该底片光罩之二端，以及该第二卷出轴及该第二卷入轴分别卷覆该基材之二端。依据申请专利范围第5或6项所述之自动化连续曝光系统，其中，该控制装置可设定各种相对移动速度或光线强度之参数。依据申请专利范围第5或6项所述之自动化连续曝光系统，其中，该线性光源是一放电光源或一半导体光源。 |
