发明名称 奈米碳管场发射显示器
摘要
申请公布号 TWI331374 申请公布日期 2010.10.01
申请号 TW095110009 申请日期 2006.03.23
申请人 欣兴电子股份有限公司 发明人 陈铭如
分类号 H01L21/8232 主分类号 H01L21/8232
代理机构 代理人 詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;萧锡清 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1
主权项 一种奈米碳管场发射显示器,包括:一阴极基板;以及一阳极基板,配置于该阴极基板上方,该阳极基板包括:一第一基板,具有一第一表面与一第二表面,该第一表面面对该阴极基板;一阳极电极,配置于该第一基板的该第一表面上;一萤光材料层,全面地覆盖于该阳极电极与该阴极基板之间;多个彩色滤光薄膜,配置于该萤光材料层与该第一基板之间,其中该萤光材料层直接地且全面地覆盖于该些彩色滤光薄膜上,而该些彩色滤光薄膜直接地配置于该阳极电极上。如申请专利范围第1项所述之奈米碳管场发射显示器,其中该些彩色滤光薄膜配置于该萤光材料层与该阳极电极之间。如申请专利范围第1项所述之奈米碳管场发射显示器,其中该些彩色滤光薄膜配置于该阳极电极与该第一基板之间。如申请专利范围第1项所述之奈米碳管场发射显示器,其中该些彩色滤光薄膜包括红光滤光薄膜、绿光滤光薄膜以及蓝光滤光薄膜。如申请专利范围第1项所述之奈米碳管场发射显示器,其中该阳极基板更包括一黑矩阵层,配置于该些彩色滤光薄膜之间,且该些彩色滤光薄膜部份覆盖该黑矩阵层。如申请专利范围第1项所述之奈米碳管场发射显示器,其中该阴极基板包括:一第二基板;多条阴极线,配置于该第二基板上;多个场发射元件,配置于该第二基板上,每一场发射元件分别与该些阴极线之一电性相连;多条闸极线,配置于该些阴极线上方,每一闸极线具有多个开孔,且每一开孔分别暴露该些场发射元件之一,而每一场发射元件分别对应于该些彩色滤光薄膜之一。如申请专利范围第6项所述之奈米碳管场发射显示器,其中该些场发射元件包括奈米碳管。如申请专利范围第6项所述之奈米碳管场发射显示器,其中该阴极基板更包括一绝缘层,配置于该些阴极线与该些闸极线之间,而该些闸极线之该些开孔更延伸至该绝缘层,以暴露该些场发射元件。如申请专利范围第8项所述之奈米碳管场发射显示器,其中该绝缘层之材质包括玻璃。如申请专利范围第1项所述之奈米碳管场发射显示器,其中该阴极基板包括:一第二基板;多条阴极线,配置于该第二基板上;多条闸极线,配置于该第二基板上;多个主动元件,配置于该第二基板上,每一主动元件分别与该些阴极线之一以及该些闸极线之一电性相连;多个场发射元件,配置于该第二基板上,每一场发射元件分别与该些主动元件之一电性相连,且每一场发射元件分别对应于该些彩色滤光薄膜之一。如申请专利范围第10项所述之奈米碳管场发射显示器,其中该些场发射元件包括奈米碳管。如申请专利范围第10项所述之奈米碳管场发射显示器,其中该阴极基板更包括一绝缘层,该绝缘层覆盖该些阴极线、该些闸极线以及该些主动元件,而该些场发射元件配置于该绝缘层上。如申请专利范围第12项所述之奈米碳管场发射显示器,其中该绝缘层之材质包括玻璃。如申请专利范围第1项所述之奈米碳管场发射显示器,更包括多个间隔物(spacer),配置于该阴极基板与该阳极基板之间。如申请专利范围第1项所述之奈米碳管场发射显示器,其中该阳极电极之材质包括铟锡氧化物(Indium Tin Oxide,ITO)、铟锌氧化物(Indium Zinc Oxide,IZO)或其他透明之导电材质。如申请专利范围第1项所述之奈米碳管场发射显示器,其中该萤光材料层之材质包括白光萤光材料。如申请专利范围第1项所述之奈米碳管场发射显示器,其中该阳极基板与该阴极基板之间的距离介于1毫米(mm)至50毫米之间。如申请专利范围第17项所述之奈米碳管场发射显示器,其中该阳极基板与该阴极基板之间的距离介于1毫米至5毫米之间。
地址 桃园县桃园市龟山工业区兴邦路38号