| 主权项 |
一种表面干涉分析之方法，包括：由一量测物件得到一低同调干涉信号之获得步骤，该量测物件包括一第一界面与一第二界面，该低同调干涉信号包括第一重叠干涉图案与第二重叠干涉图案，该第一重叠干涉图案、该第二重叠干涉图案分别源自于该第一界面、该第二界面；以及对该第一重叠干涉图案、该第二重叠干涉图案之子集之辨视步骤，该第一重叠干涉图案、该第二重叠干涉图案中一者之该子集的表现是大于该第一重叠干涉图案、该第二重叠干涉图案中另一者之该子集的表现。如申请专利范围第1项所述之表面干涉分析之方法，其中，于该获得步骤中包括了经由该量测物件而获得复数低同调干涉信号，该等低同调干涉信号分别包括第一重叠干涉图案与第二重叠干涉图案，该等第一重叠干涉图案分别源自于该第一界面之一不同作用点，该等第二重叠干涉图案分别源自于该第二界面之一不同作用点，该等低同调干涉信号之该获得步骤中包括了对该量测物件进行成像，于该子集之该辨视步骤中包括了分别辨视该第一重叠干涉图案、该第二重叠干涉图案之该子集，该第一重叠干涉图案、该第二重叠干涉图案中一者之该子集的表现是大于该第一重叠干涉图案、该第二重叠干涉图案中另一者之该子集的表现。如申请专利范围第2项所述之表面干涉分析之方法，其中，对于各该等低同调干涉信号而言，该获得步骤包括了采用一干涉仪，来自于光线之该等低同调干涉信号分别具有复数光程差范围，该等光程差范围分别至少为该干涉仪之一同调长度的50%。如申请专利范围第3项所述之表面干涉分析之方法，其中，该等光程差范围分别至少等同于该干涉仪之该同调长度。如申请专利范围第2项所述之表面干涉分析之方法，其中，该第一界面为该量测物件之一外表面，并且该方法包括了决定该外表面之各该等作用点的一相对长度。如申请专利范围第2项所述之表面干涉分析之方法，其中，该第一界面、该第二界面之间是由1000 nm或小于1000 nm所分隔。如申请专利范围第2项所述之表面干涉分析之方法，其中，该第一界面为该量测物件之一外表面，并且该第二界面是位于该第一界面之下方。如申请专利范围第7项所述之表面干涉分析之方法，其中，该外表面为覆盖于一基底上之一光阻层之一外表面，并且该基底、该光阻层之该外表面之间是定义为该第二界面。如申请专利范围第2项所述之表面干涉分析之方法，其中，该第一界面、该第二界面为一液晶显示晶胞之界面。如申请专利范围第2项所述之表面干涉分析之方法，其中，基于该低同调干涉信号，该方法更包括了对于该第一界面或该第二界面之至少一部分该等作用点之各该作用点之一空间性质之决定步骤。如申请专利范围第10项所述之表面干涉分析之方法，其中，该第一重叠干涉图案与该第二重叠干涉图案分别包括复数条纹，并且对于该第一界面或该第二界面之至少一部分该等作用点之各该作用点之该空间性质之该决定步骤包括：基于该第一重叠干涉图案或该第二重叠干涉图案之半数之该等条纹之下，决定至少一部分该等作用点之各该作用点之该空间性质。如申请专利范围第10项所述之表面干涉分析之方法，其中，该第一重叠干涉图案与该第二重叠干涉图案分别包括复数条纹，并且对于至少一部分该等作用点之各该作用点之该空间性质之该决定步骤包括：转换该第一重叠干涉图案或该第二重叠干涉图案之半数之该等条纹。如申请专利范围第10项所述之表面干涉分析之方法，其中，对于至少一部分该等作用点之各该作用点之该空间性质之该决定步骤包括：基于相对之该低同调干涉信号之该第一重叠干涉图案与该第二重叠干涉图案之一非对称子集，进行至少一部分该等作用点之各该作用点之该空间性质之决定步骤。如申请专利范围第13项所述之表面干涉分析之方法，其中，至少一部分该等作用点之各该作用点之该空间性质的该决定步骤包括了转换该非对称子集。如申请专利范围第13项所述之表面干涉分析之方法，其中，该第一界面为该量测物件之一外表面，并且至少一部分该等作用点之各该作用点之该空间性质的该决定步骤包括了决定该外表面之该等作用点之一空间性质。如申请专利范围第15项所述之表面干涉分析之方法，其中，该等非对称子集分别受到来源自于该量测物件之该外表面之干涉所支配。如申请专利范围第13项所述之表面干涉分析之方法，其中，该子集之该辨视步骤包括：基于一干涉仪响应之一模版的指示以决定该非对称子集之一边界。如申请专利范围第17项所述之表面干涉分析之方法，其中，该模版为一物件高度独立干涉仪响应的指示。如申请专利范围第17项所述之表面干涉分析之方法，其中，该边界之该决定步骤包括了比对该模版与该低同调干涉信号。如申请专利范围第10项所述之表面干涉分析之方法，其中，该边界之该决定步骤包括了进行该模版与该低同调干涉信号之间进行相互相关步骤。如申请专利范围第20项所述之表面干涉分析之方法，其中，该相互相关步骤包括了在基于该低同调干涉信号之形状之下进行正规化。如申请专利范围第10项所述之表面干涉分析之方法，其中，至少一部分该等作用点之各该作用点之该空间性质的该决定步骤包括了：基于相对之该低同调干涉信号与一干涉仪响应之一模版的指示以决定该空间性质。如申请专利范围第22项所述之表面干涉分析之方法，其中，至少一部分该等作用点之各该作用点之该空间性质的该决定步骤包括了进行相对之该低同调干涉信号与该模版之比对步骤。如申请专利范围第23项所述之表面干涉分析之方法，其中，该比对步骤包括了决定相对之该低同调干涉信号与该模版之间的一最佳匹配位置。如申请专利范围第23项所述之表面干涉分析之方法，其中，该比对步骤包括了于该模版与该第一重叠干涉图案、该第二重叠干涉图案之间进行该相互相关步骤。如申请专利范围第25项所述之表面干涉分析之方法，其中，该相互相关步骤包括了在基于相对之该低同调干涉信号之形状之下进行正规化。如申请专利范围第22项所述之表面干涉分析之方法，其中，该模版为非对称。如申请专利范围第27项所述之表面干涉分析之方法，其中，该模版具有一截断干涉图案之形状。如申请专利范围第22项所述之表面干涉分析之方法，包括了经由一参考物件之各复数作用点所获得之一低同调干涉信号而产生该模版，其中，该模版包括了源自于各该等低同调干涉信号之复数表现。如申请专利范围第29项所述之表面干涉分析之方法，其中，该等低同调干涉信号分别包括了对应之该参考物件之该等作用点之高度所指示之复数物件高度依附性质，并且该模版之准备步骤包括了自该等低同调干涉信号之上将该等物件高度依附性质予以移除。如申请专利范围第29项所述之表面干涉分析之方法，其中，该等低同调干涉信号包括一非重叠干涉图案。一种表面干涉分析装置，包括：一光学系统，用以自一被测量的物件获得一低同调干涉信号，该物件包括复数界面，其中，该低同调干涉信号包括了至少第一重叠干涉图案与第二重叠干涉图案，该第一重叠干涉图案、该第二重叠干涉图案为至少源自于该第一界面、该第二界面；以及一处理器，设计成为：基于该第一重叠干涉图案、该第二重叠干涉图案之一非对称子集而进行该第一界面、该第二界面中之至少一者之一空间性质之决定步骤。如申请专利范围第32项所述之表面干涉分析装置，该处理器设计成为：进行该低同调干涉信号之一部分之决定步骤，该低同调干涉信号包括：该第一重叠干涉图案、该第二重叠干涉图案中一者之该子集的表现是大于该第一重叠干涉图案、该第二重叠干涉图案中另一者之该子集的表现；以及由该低同调干涉信号之该部分中选出该子集。如申请专利范围第32项所述之表面干涉分析装置，其中，该第一界面为该物件之一外表面，该第一重叠干涉图案源自于该第一界面，该处理器设计成用以决定该第一界面之一空间性质。如申请专利范围第34项所述之表面干涉分析装置，其中，该光学系统为设计用以自该物件获得复数低同调干涉信号，该等低同调干涉信号分别包括了源自于该第一界面、该第二界面中之不同作用点之个别的该第一重叠干涉图案、该第二重叠干涉图案，其中，在基于该等低同调干涉信号之个别的非对称子集之下，该处理器为设计成用以决定该第一界面之复数作用点之一空间性质。如申请专利范围第35项所述之表面干涉分析装置，其中，该等作用点之该空间性质为该等作用点之一相对高度。如申请专利范围第35项所述之表面干涉分析装置，其中，该处理器设计成用以决定相对于另一物件下之该物件之该外表面的一空间性质。如申请专利范围第35项所述之表面干涉分析装置，其中，该处理器设计成用以决定相对于一微影装置下之该物件之该外表面的一位置。一种处理器，设计成至少为：接收来自于使用一干涉仪之一被测量的物件所获得之一低同调干涉信号，该物件包括复数界面，其中，该低同调干涉信号包括了至少第一重叠干涉图案与第二重叠干涉图案，该第一重叠干涉图案、该第二重叠干涉图案分别源自于该物件之至少该第一界面与该第二界面；以及基于相对之该低同调干涉信号之该第一重叠干涉图案与该第二重叠干涉图案之一非对称子集之下，进行该第一界面与该第二界面之至少一者之一空间性质之决定步骤。 |
