发明名称 |
物理气相淀积沉积腔室气密性检测方法 |
摘要 |
一种物理气相淀积沉积腔室气密性检测方法,包括:运行第一控片,所述第一控片的运行时间大于或等于检测反应时间;对第二控片执行物理气相淀积操作;检测所述第二控片的阻值;所述第二控片的阻值符合检测基准时,所述物理气相淀积沉积腔室的气密性符合产品要求;所述第二控片的阻值大于检测基准时,所述物理气相淀积沉积腔室的气密性不符合产品要求。可及时地检测出所述物理气相淀积沉积腔室开始运行后发生的异常,利于及时排障,以减少所述物理气相淀积沉积腔室处于异常状态时生产产品的数量,且不改变所述物理气相淀积沉积腔室内的环境。 |
申请公布号 |
CN101458150B |
申请公布日期 |
2010.09.29 |
申请号 |
CN200710094497.8 |
申请日期 |
2007.12.13 |
申请人 |
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
发明人 |
聂佳相;苏娜;胡宇慧 |
分类号 |
G01M3/40(2006.01)I;G01M3/02(2006.01)I |
主分类号 |
G01M3/40(2006.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 11227 |
代理人 |
李丽 |
主权项 |
一种物理气相淀积沉积腔室气密性检测方法,其特征在于,包括: 运行第一控片,所述第一控片的运行时间大于或等于检测反应时间; 对第二控片执行物理气相淀积操作; 检测所述第二控片的阻值; 所述第二控片的阻值符合检测基准时,所述物理气相淀积沉积腔室的气密性符合产品要求;所述第二控片的阻值大于检测基准时,所述物理气相淀积沉积腔室的气密性不符合产品要求。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江路18号 |