集成的曝光后烘烤轨道

摘要

本发明公开了一种集成的曝光后烘烤的轨道，还公开了用以处理晶片的系统和方法，组合的曝光后烘烤和冷却单元，以及接口。示例性系统包括光刻工具、本地轨道、传送装置、传送装置处理机、接口单元和用于规划处理过程的控制器。示例性的组合的曝光后烘烤和冷却单元包括在其侧面上有开口的外壳，以及外壳中的烘烤单元和冷却单元。示例性的接口包括多个设置在机械手周围的外壳，其中机械手用以在外壳间传送晶片，多个外壳中的一个是集成的烘烤和冷却单元。

主权项

一种组合的曝光后烘烤和冷却单元，包括：外壳，该外壳包括具有第一长度的第一和第二相对侧面，以及具有第二长度的第三和第四相对侧面，该第一长度大于该第二长度，该外壳在第一相对侧面上具有开口以容纳晶片；在该外壳中的烘烤单元；并且在该外壳中的冷却单元。