| 发明名称 | 基于振荡-补光策略的新型光合生物制氢工艺 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种基于振荡-补光策略的新型光合生物制氢工艺。具体地，本发明提供了一种利用光合细菌制造氢气方法，包括步骤：(a)在非静置状态和光照强度I1的初始入射光照射下，培养产氢的光合细菌，其中所述初始入射光的光照强度I1满足以下条件：(i)I1＞I0，式中I0是静置培养时初始入射光的最适光照强度；(ii)在所述光照强度I1下，培养体系中至少70％区域(或体积)所受的实际光照强度I1′大于或等于在静置培养所述下同一区域(或体积)所受的实际光照强度I0′；(b)从培养体系中分离出产生的氢气。本发明方法可有效提高光合细菌制氢的效率，缩短产氢的周期并维持很高的底物转化率。 | ||
| 申请公布号 | CN101845460A | 申请公布日期 | 2010.09.29 |
| 申请号 | CN200910048227.2 | 申请日期 | 2009.03.26 |
| 申请人 | 华东理工大学 | 发明人 | 王永红;张明;李旭;张嗣良;张波;储炬;庄英萍;鲍杰 |
| 分类号 | C12P3/00(2006.01)I;C12R1/01(2006.01)N | 主分类号 | C12P3/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人 | 徐迅 |
| 主权项 | 一种利用光合细菌制造氢气方法，其特征在于，包括步骤：(a)在非静置状态和光照强度I1的初始入射光照射下，培养产氢的光合细菌，其中所述的初始入射光的光照强度I1满足以下条件：(i)I1＞I0式中，I0是静置培养所述光合细菌时初始入射光的最适光照强度；(ii)在所述光照强度I1下，在非静置培养的光合细菌的培养体系中，至少70％区域(或体积)所受到的实际光照强度I1′大于或等于在静置培养所述光合细菌时在最适光照强度I0的初始入射光照射下同一区域(或体积)所受到的实际光照强度I0′；(b)从培养体系中分离出所述光合细菌所产生的氢气。 | ||
| 地址 | 200237 上海市梅陇路130号 | ||