一种ITO薄膜的制备方法

摘要

本发明涉及一种新型铟锡氧化物(ITO)薄膜的制备方法。其制备过程是，首先将15-50nm的ITO纳米颗粒在乙醇中用偶联剂进行表面修饰，然后再用提拉法或旋涂法将表面修饰的ITO纳米颗粒镀在玻璃上，烘干即得到ITO薄膜。与传统的ITO薄膜制备方法相比，该方法无需真空设备、无需高温、工艺简单，适用于大面积且形状复杂的基体，对基体无损伤，对ITO薄膜的大型产业化有非常重要的作用。

主权项

一种ITO薄膜制备方法，其特征在于：首先在一定质量的介质中加入占介质重5％-30％的ITO纳米颗粒，得到均匀分散的ITO溶液；然后在ITO溶液中按ITO纳米颗粒质量加入1％-5％的偶联剂；最后用提拉法或旋涂法将表面修饰的ITO纳米颗粒涂覆在玻璃上并在真空干燥箱中50～60℃下烘0.5-4小时，即获得ITO薄膜。