发明名称 基板载置台及其制造方法、基板处理装置、流体供给机构
摘要 本发明提供一种不仅能够防止在流体通路内残留的喷镀残渣,而且能够防止发生喷镀残渣导致的污染、防止发生流体通路的孔堵塞的基板载置台、基板载置台的制造方法、基板处理装置、流体供给机构。基板载置台(5)通过粘合形成为圆板状的第一板状部件(510)和第二板状部件(520)而构成,其整体形成为板状。在第一板状部件(510)中设置有多个气体喷出孔(511)。在第二板状部件(520)中形成用于形成向气体喷出孔(511)供给气体的供给通路的槽(521),并且槽(521)的底部(521a)形成为曲面状。在第一板状部件(510)的上侧的载置面上设置有静电卡盘(11)。静电卡盘(11)通过在由陶瓷喷镀膜制成的绝缘部件(10)之间配置电极(12)而构成。
申请公布号 CN101207061B 申请公布日期 2010.09.29
申请号 CN200710154402.7 申请日期 2007.09.11
申请人 东京毅力科创株式会社 发明人 上田雄大;小林义之;大桥薰
分类号 H01L21/683(2006.01)I;C23C16/458(2006.01)I;C23C16/44(2006.01)I;C23F4/00(2006.01)I;H01J37/32(2006.01)I;H05H1/00(2006.01)I 主分类号 H01L21/683(2006.01)I
代理机构 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人 龙淳
主权项 一种基板载置台,其特征在于,具备板状部件,该板状部件具有:载置有基板的载置面;在所述载置面上开口并且向该载置面与所述基板之间供给气体的多个气体喷出孔;和用于向所述气体喷出孔供给气体的气体供给通路,并且所述基板载置台设置有覆盖所述载置面的陶瓷喷镀层,至少与所述气体喷出孔相对的部位的所述气体供给通路的内壁形成为曲面状。
地址 日本国东京都