腐蚀腔装置及气相腐蚀设备

摘要

本实用新型涉及一种腐蚀腔装置及使用该腐蚀腔装置的气相腐蚀设备。该气相腐蚀设备包括一腐蚀气体产生装置和一腐蚀腔装置，该腐蚀气体产生装置将产生的氮气和氢氟酸的混合气体输入到该腐蚀腔装置；该腐蚀腔装置包括一腔体、一上盖、至少一进气端、至少一排气端和至少一用于承载硅片的承载装置，该上盖位于该腔体的顶部，该承载装置位于该腔体的底部，该进气端和该排气端分别位于该腔体的两端，该进气端与该腐蚀气体产生装置相连。本实用新型使得硅片表面得到均匀腐蚀，提高了产品的良率，并且生产操作安全，利于环境保护。

主权项

一种气相腐蚀设备，其特征在于，该气相腐蚀设备包括一腐蚀气体产生装置和一腐蚀腔装置，该腐蚀气体产生装置将其产生的氮气和氢氟酸的混合气体输入到该腐蚀腔装置；该腐蚀腔装置包括一腔体、一上盖、至少一进气端、至少一排气端和至少一用于承载硅片的承载装置，该上盖位于该腔体的顶部，该承载装置位于该腔体的底部，该进气端和该排气端分别位于该腔体的两端，该进气端与该腐蚀气体产生装置相连。