发明名称 |
成膜装置及成膜方法 |
摘要 |
本发明的成膜装置包括:成膜室,用于进行成膜;排气装置,与所述成膜室连接并将该成膜室内的气体排到外部;支架,设在所述成膜室内并保持被处理材料;喷嘴,设在所述成膜室内,具有形成狭缝状的喷出口,并且从所述喷出口向所述被处理材料喷射包含材料颗粒的气溶胶,从而在所述被处理材料上形成由所述材料颗粒构成的膜;和遮蔽部件,设在所述喷出口的长度方向的侧方并覆盖从该喷出口向所述被处理材料喷射的所述气溶胶的喷射流的侧方,因此,可抑制排气流引起的气溶胶流的紊乱,可均匀地形成膜。 |
申请公布号 |
CN1920095B |
申请公布日期 |
2010.09.29 |
申请号 |
CN200610125622.2 |
申请日期 |
2006.08.24 |
申请人 |
兄弟工业株式会社;独立行政法人产业技术综合研究所 |
发明人 |
安井基博;明渡纯 |
分类号 |
C23C24/00(2006.01)I;B41J2/16(2006.01)I |
主分类号 |
C23C24/00(2006.01)I |
代理机构 |
中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 |
代理人 |
樊卫民;郭国清 |
主权项 |
一种成膜装置,包括:成膜室,用于进行成膜;排气装置,与所述成膜室连接并将该成膜室内的气体排到外部;支架,设在所述成膜室内并保持被处理材料;喷嘴,设在所述成膜室内,具有被形成狭缝状的喷出口,并且从所述喷出口向所述被处理材料喷射包含材料颗粒的气溶胶,从而在所述被处理材料上形成由所述材料颗粒构成的膜;和遮蔽部件,设在所述喷出口的长度方向的侧方并覆盖从该喷出口向所述被处理材料喷射的所述气溶胶的喷射流的侧方,所述成膜室中设有与所述排气装置连接的排气口,所述遮蔽部件设在与朝向所述排气口的所述气溶胶的排气流交叉的方向上。 |
地址 |
日本爱知县名古屋市 |