发明名称 |
基板处理方法 |
摘要 |
用于基板处理设施的基板处理方法,在保管在收纳架时以及由收纳容器搬运装置搬运时,将收纳容器的盖设为关闭状态,利用风扇过滤单元进行通风;并且在基板输入输出部中由基板搬运装置搬运基板时,将收纳容器的盖设为打开状态,利用风扇过滤单元进行通风。 |
申请公布号 |
CN101145504B |
申请公布日期 |
2010.09.29 |
申请号 |
CN200710148958.5 |
申请日期 |
2007.09.12 |
申请人 |
株式会社大福 |
发明人 |
森屋进;池畑淑照 |
分类号 |
H01L21/00(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I;H01L21/677(2006.01)I;B65G49/00(2006.01)I;B65G49/06(2006.01)I;B65G49/07(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/00(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
崔幼平 |
主权项 |
一种基板处理方法,用于基板处理设施,前述基板处理设施包括:多个基板处理装置,用于处理基板;收纳容器,将多张前述基板保持在上下方向上隔开间隔地排列的状态,前述收纳容器形成为整体具有四边形的截面的筒状,即具有其一端侧的第1开口、和在水平方向上与前述第1开口隔开间隔的另一端侧设置的第2开口,前述第1开口构成为用于输入输出前述基板的输入输出口,这里,前述收纳容器具有装备在前述收纳容器的前述第2开口的区域而从前述第2开口朝向前述第1开口通风的风扇过滤单元,进而在前述收纳容器的输入输出口部装备有对前述收纳容器的前述输入输出口进行开闭的盖,在关闭状态下该盖的一部分为开口,且在打开状态下容许前述基板搬运装置搬运前述基板;收纳架,具有收纳前述收纳容器的多个收纳部;基板输入输出部,分别与多个前述基板处理装置对应;基板搬运装置,从位于前述基板输入输出部的前述收纳容器向前述基板处理装置供给基板,并将从前述基板处理装置搬出的基板收纳到位于前述基板输入输出部的前述收纳容器中;以及收纳容器搬运装置,将前述收纳容器搬运到前述多个基板处理装置各自中的前述基板输入输出部和前述收纳架的前述收纳部;通过将前述收纳容器保管到前述收纳架上,并将保管的前述收纳容器依次搬运到前述多个基板处理装置各自中的前述基板输入输出部,而利用多个前述基板处理装置依次处理前述基板,来制造处理完的基板,前述基板处理方法包括以下步骤:在保管在前述收纳架时以及由前述收纳容器搬运装置搬运时,将前述收纳容器的前述盖设为关闭状态,利用前述风扇过滤单元进行通风;并且在前述基板输入输出部中由前述基板搬运装置搬运前述基板时,将前述收纳容器的前述盖设为打开状态,利用前述风扇过滤单元进行通风。 |
地址 |
日本大阪府大阪市 |