发明名称 喷墨方式彩色滤光片用黑矩阵挡墙的感光材料及制造方法
摘要 本发明涉及一种喷墨方式彩色滤光片用黑矩阵挡墙的感光材料,其组成包括:0.1至40wt%的色料,1至95wt%的溶剂,0.01至15wt%的起始剂,0.1至30wt%的高分子寡聚物的改性物,该改性物具有如下一种或多种官能团或官能基:氢氰酸基、异氰酸基、异氢基、硫氢基、酰胺基、硅氧基、硫基、脲基、磷酸基和砜基,30wt%及30wt%以下的高分子聚合物,以及10wt%及10wt%以下的添加剂。本发明还涉及一种使用上述感光材料制造黑矩阵挡墙的方法。使用该感光材料制造的黑矩阵挡墙与彩色墨水的间所形成的接触角大于传统材料所作的黑矩阵挡墙,能够防止彩色墨水与黑矩阵挡墙接触时,产生吸附或润湿的情形,避免不同彩色墨水的间发生混墨的情形,以利制程的顺利进行。
申请公布号 CN101071269B 申请公布日期 2010.09.29
申请号 CN200610075800.5 申请日期 2006.05.09
申请人 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 发明人 陈伟源
分类号 G03F7/038(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I;G03F7/38(2006.01)I;G03F7/40(2006.01)I;G02B5/23(2006.01)I 主分类号 G03F7/038(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种用于喷墨法制造彩色滤光片的黑矩阵挡墙的感光材料,其特征在于包括:0.1至40wt%的色料;1至95wt%的溶剂;0.01至15wt%的起始剂;0.1至30wt%的高分子寡聚物的改性物,该改性物具有如下一种或多种官能团或官能基:氢氰酸基、异氰酸基、异氢基、硫氢基、酰胺基、硅氧基、硫基、脲基、磷酸基和砜基;30wt%及30wt%以下的高分子聚合物;以及10wt%及10wt%以下的添加剂。
地址 广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号