发明名称 曝光装置、图像形成设备以及曝光控制方法
摘要 本发明提供了一种曝光装置、图像形成设备以及曝光控制方法。曝光装置包括多个发光元件、光量检测单元、控制器、多个保持单元和连接单元。控制器根据光量检测单元所检测到的光量和预定基准值之间的比较结果来依次确定各个发光元件的控制值。多个保持单元分别被配置用于发光元件。每个保持单元保持控制器的控制电压。当控制器将要依次确定多个发光元件中的一部分发光元件的控制值时,在控制器确定所述一部分发光元件中最先被确定控制值的一个或多个发光元件的控制值之前,连接单元将控制器和与所述一个或多个发光元件相对应的保持单元连接起来。
申请公布号 CN101846926A 申请公布日期 2010.09.29
申请号 CN201010138653.8 申请日期 2010.03.16
申请人 富士施乐株式会社 发明人 盐谷康平;宇贺神淳;仓岛哲;堀哲也;崎田智明
分类号 G03G15/043(2006.01)I;G03G15/00(2006.01)I 主分类号 G03G15/043(2006.01)I
代理机构 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人 陈源;张天舒
主权项 一种曝光装置,包括:多个发光元件;光量检测单元,其检测发光元件的光量;控制器,其根据光量检测单元所检测到的光量和预定基准值之间的比较结果来依次确定各个发光元件的控制值,其中各个发光元件的控制值被用来使各个发光元件发光并执行曝光;多个保持单元,其分别被配置用于发光元件,其中每个保持单元保持控制器的控制电压;以及连接单元,其中当控制器将要依次确定多个发光元件中的一部分发光元件的控制值时,在控制器确定所述一部分发光元件中最先被确定控制值的一个或多个发光元件的控制值之前,连接单元将控制器和与所述一个或多个发光元件相对应的保持单元连接起来。
地址 日本东京