BACKSIDE SILICON WAFER DESIGN REDUCING IMAGE ARTIFACTS FROM INFRARED RADIATION,申请号KR20087005293-传众专利搜索

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发明名称	BACKSIDE SILICON WAFER DESIGN REDUCING IMAGE ARTIFACTS FROM INFRARED RADIATION
摘要
申请公布号	KR100983439(B1)	申请公布日期	2010.09.24
申请号	KR20087005293	申请日期	2006.07.27
申请人		发明人
分类号	H01L27/146;H01L31/0236	主分类号	H01L27/146
代理机构		代理人
主权项
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