摘要 |
<p>L'invention est relative à un procédé de détermination du rayon surfacique r et/ou de la densité n des particules d'une nanopoudre dans un échantillon en lévitation dans un plasma électropositif de volume V formé entre une première électrode alimentée par une tension radiofréquence et une deuxième électrode portée à une tension fixe, notamment de masse, caractérisé en ce que : V désigne l'amplitude à l'instant de mesure t de la tension radiofréquence RF alimentant la première électrode lorsque la poudre est présente dans le plasma, V désigne l'amplitude de ladite tension radiofréquence alimentant la première électrode en l'absence de poudre dans le plasma, V désignant la tension d'autopolarisation de la première électrode à l'instant t lorsque la poudre est présente dans le plasma, V désignant la tension d'autopolarisation de la première électrode en l'absence de poudre dans le plasma,ΔA désignant la variation de surface de la deuxième électrode en présence de poudre à l'instant t par rapport à une situation en l'absence de poudre, et les valeurs de n et de K étant déterminées par étalonnage en traçant une courbe donnant r en fonction deΔA et de V à partir de données expérimentales obtenues à partir de poudres ayant un diamètre de particules connu en mesurant V , V , V , et V et en réalisant une régression sur ladite courbe.</p> |