发明名称 PROCEDE DE DETERMINATION DU RAYON SURFACIQUE ET/OU DE LA DENSITE PARTICULAIRE D'UNE POUDRE.
摘要 <p>L'invention est relative à un procédé de détermination du rayon surfacique r et/ou de la densité n des particules d'une nanopoudre dans un échantillon en lévitation dans un plasma électropositif de volume V formé entre une première électrode alimentée par une tension radiofréquence et une deuxième électrode portée à une tension fixe, notamment de masse, caractérisé en ce que : V désigne l'amplitude à l'instant de mesure t de la tension radiofréquence RF alimentant la première électrode lorsque la poudre est présente dans le plasma, V désigne l'amplitude de ladite tension radiofréquence alimentant la première électrode en l'absence de poudre dans le plasma, V désignant la tension d'autopolarisation de la première électrode à l'instant t lorsque la poudre est présente dans le plasma, V désignant la tension d'autopolarisation de la première électrode en l'absence de poudre dans le plasma,ΔA désignant la variation de surface de la deuxième électrode en présence de poudre à l'instant t par rapport à une situation en l'absence de poudre, et les valeurs de n et de K étant déterminées par étalonnage en traçant une courbe donnant r en fonction deΔA et de V à partir de données expérimentales obtenues à partir de poudres ayant un diamètre de particules connu en mesurant V , V , V , et V et en réalisant une régression sur ladite courbe.</p>
申请公布号 FR2943420(A1) 申请公布日期 2010.09.24
申请号 FR20090001240 申请日期 2009.03.17
申请人 CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE - CNRS;UNIVERSITE D'ORLEANS 发明人 BOUFENDI LAIFA;WATTIEAUX GAETAN
分类号 G01N15/02 主分类号 G01N15/02
代理机构 代理人
主权项
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