发明名称 |
Aufreinigung von metallurgischem Silizium |
摘要 |
Beschrieben wird ein Verfahren zur Aufreinigung von metallurgischem Silizium, bei dem das metallurgische Silizium insbesondere mittels eines elektrischen Hochspannungsfelds zerkleinert wird, die dabei erhaltenen Siliziumpartikel einer chemischen Behandlung unterworfen werden und die Siliziumpartikel nach der chemischen Behandlung aufgeschmolzen werden und die erhaltene Siliziumschmelze durch gerichtetes Erstarren aufgereinigt wird. Des Weiteren wird eine Anlage zur Durchführung eines solchen Verfahrens beschrieben.
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申请公布号 |
DE102009014562(A1) |
申请公布日期 |
2010.09.23 |
申请号 |
DE200910014562 |
申请日期 |
2009.03.16 |
申请人 |
SCHMID SILICON TECHNOLOGY GMBH |
发明人 |
PETRIK, ADOLF;SCHMID, CHRISTIAN;HAHN, JOCHEM |
分类号 |
C01B33/02;C01B33/037 |
主分类号 |
C01B33/02 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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