| 发明名称 | 调光装置以及使用该调光装置的投影机用的照明装置 | ||
| 摘要 | 提供一种使遮光量的变化比较平缓并且能够在遮光率最大时使照明光量充分下降的调光装置以及使用该调光装置的投影机用的照明装置。通过形成于一对遮光部(82a、82b)的第1遮光构件(91a、91b)的端部的切口部(CTa、CTb)，能够得到比较平缓的遮光量的变化，进而通过接近切口部(CTa、CTb)地配置的第2遮光构件(92a、92b)，使与切口部(CTa、CTb)相对应的光的遮蔽区域变化，特别是，在第1遮光构件(91a、91b)的完全关闭时将与切口部(CTa、CTb)的区域对应的光束的遮蔽量设为最大。 | ||
| 申请公布号 | CN101840142A | 申请公布日期 | 2010.09.22 |
| 申请号 | CN201010142422.4 | 申请日期 | 2010.03.18 |
| 申请人 | 精工爱普生株式会社 | 发明人 | 望月祐孝 |
| 分类号 | G03B21/14(2006.01)I;G03B21/20(2006.01)I;F21S8/00(2006.01)I;F21V17/00(2006.01)I | 主分类号 | G03B21/14(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人 | 陈海红;杨光军 |
| 主权项 | 一种调光装置，具备具有用于开闭动作的转动轴部的遮光部和使所述转动轴部转动的转动机构，其中：所述遮光部具有第1遮光构件与第2遮光构件；所述第1遮光构件由板状的构件构成，在系统光轴侧的端部具有切口部，并且根据所述遮光部的开闭动作而使通过的光的遮蔽区域的大小变化；所述第2遮光构件与所述第1遮光构件接近地配置，根据所述遮光部的开闭动作而使与所述切口部相对应的光的遮蔽区域变化，遮蔽所述第1遮光构件完全关闭时的通过所述切口部的光束的至少一部分。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||