| 发明名称 | Al-基合金溅射靶及其制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种Al-基合金溅射靶，其包含0.05至10原子％的量的Ni，其中当根据电子反向散射衍射花样法观察Al-基合金溅射靶的溅射表面的法线方向上的结晶取向<001>、<011>、<111>和<311>时，所述Al-基合金溅射靶满足：(1)P值对溅射表面的总面积的比率为70％以上，其中P值表示<001>±15°、<011>±15°、<111>±15°和<311>±15°的面积分数的总和；(2)<011>±15°的面积分数对P值的比率为30％以上；和(3)<111>±15°的面积分数对P值的比率为10％以下。 | ||
| 申请公布号 | CN101220458B | 申请公布日期 | 2010.09.22 |
| 申请号 | CN200710193219.8 | 申请日期 | 2007.11.20 |
| 申请人 | 株式会社神户制钢所;株式会社钢臂功科研 | 发明人 | 高木胜寿;得平雅也;钉宫敏洋;米田阳一郎;后藤裕史 |
| 分类号 | C23C14/34(2006.01)I;C23C14/14(2006.01)I;C22C21/00(2006.01)I;C22F1/04(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/34(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 陈平 |
| 主权项 | 一种Al-基合金溅射靶，其包含0.05至10原子％的量的Ni，其中当根据电子反向散射衍射花样法观察Al-基合金溅射靶的溅射表面的法线方向上的结晶取向<001>、<011>、<111>和<311>时，所述Al-基合金溅射靶满足：(1)P值对溅射表面的总面积的比率为70％以上，其中所述P值表示<001>±15°、<011>±15°、<111>±15°和<311>±15°的面积分数的总和；(2)<011>±15°的面积分数对所述P值的比率为30％以上；和(3)<111>±15°的面积分数对所述P值的比率为10％以下，其中所述Al-基合金溅射靶进一步包含0.1至2原子％的量的稀土元素。 | ||
| 地址 | 日本兵库县 | ||