发明名称 |
红外—紫外多色探测器及其制备方法 |
摘要 |
本发明公开了一种红外—紫外多色探测器及其制备方法,其包括有衬底,在衬底上依次生长AlN缓冲层、n型GaN/AlGaN发射层、非掺杂AlGaN势垒层、n型AlGaN窗口接触层、非掺杂AlGaN吸收层、p型AlGaN限制窗口层和p型GaN接触层形成的多色探测器台面;在n型GaN/AlGaN发射层上有n型下接触电极,在n型AlGaN窗口接触层上有n型中间接触电极,在p型GaN接触层上有p型上接触电极。本探测器具有结构简单易于生长,体积小,可实现三波段响应等优点。本探测器简化了器件结构的生长过程和加工工艺,提高了器件的抗辐射能力,减小了器件体积,降低了成本。本探测器在目标的成像、报警和监测等领域有重要的应用前景。 |
申请公布号 |
CN101419996B |
申请公布日期 |
2010.09.22 |
申请号 |
CN200810079933.9 |
申请日期 |
2008.12.04 |
申请人 |
中国电子科技集团公司第十三研究所 |
发明人 |
尹顺政;李献杰;蔡道民;齐利芳;赵永林 |
分类号 |
H01L31/101(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I |
主分类号 |
H01L31/101(2006.01)I |
代理机构 |
石家庄国为知识产权事务所 13120 |
代理人 |
米文智 |
主权项 |
一种红外-紫外多色探测器,包括有衬底,其特征在于:在衬底上依次生长AlN缓冲层、n型GaN/AlGaN发射层、非掺杂AlGaN势垒层、n型AlGaN窗口接触层、非掺杂AlGaN吸收层、p型AlGaN限制窗口层和p型GaN接触层形成的多色探测器台面;在n型GaN/AlGaN发射层上有n型下接触电极,在n型AlGaN窗口接触层上有n型中间接触电极,在p型GaN接触层上有p型上接触电极。 |
地址 |
050051 河北省石家庄市合作路113号 |