发明名称 高功率基横模平板耦合光波导半导体激光器结构
摘要 一种高功率基横模平板耦合光波导半导体激光器结构,其中包括:一衬底,用于在其上生长激光器各外延层材料;一缓冲层,制作在衬底上;一N型下限制层,制作在缓冲层上;一下波导层,制作在N型下限制层上;一有源区,制作在下波导层上;一界面层,制作在有源区上;一P型上限制层,制作在界面层上;一过渡层,制作在P型上限制层上;一电极接触层,制作在过渡层上;一双沟,刻蚀在电极接触层上,刻蚀深度至下波导层以内,在双沟之间形成脊型台面;一钝化膜层,制作在电极接触层的上表面和双沟底部及两侧,所述脊型台面上的钝化膜层为断开的;一P面电极,制作在脊型台面上,与电极接触层接触;一N面电极,制作在衬底的下面。
申请公布号 CN101841124A 申请公布日期 2010.09.22
申请号 CN200910080071.6 申请日期 2009.03.18
申请人 中国科学院半导体研究所 发明人 熊聪;王俊;崇锋;刘素平;马骁宇
分类号 H01S5/00(2006.01)I;H01S5/065(2006.01)I;H01S5/068(2006.01)I;H01S5/10(2006.01)I 主分类号 H01S5/00(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 汤保平
主权项 一种高功率基横模平板耦合光波导半导体激光器结构,其特征在于,其中包括:一衬底,该衬底用于在其上生长激光器各外延层材料;一缓冲层,该缓冲层制作在衬底上;一N型下限制层,该N型下限制层制作在缓冲层上;一下波导层,该下波导层制作在N型下限制层上;一有源区,该有源区制作在下波导层上;一界面层,该界面层制作在有源区上;一P型上限制层,该P型上限制层制作在界面层上;一过渡层,该过渡层制作在P型上限制层上;一电极接触层,该电极接触层制作在过渡层上;一双沟,该双沟刻蚀在电极接触层上,刻蚀深度至下波导层以内,在双沟之间形成脊型台面;一钝化膜层,该钝化膜层制作在电极接触层的上表面和双沟底部及两侧,所述脊型台面上的钝化膜层为断开的;一P面电极,该P面电极制作在脊型台面上,与电极接触层接触;一N面电极,该N面电极制作在衬底的下面。
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