发明名称 | 关于流化床的方法和装置 | ||
摘要 | 一种在流化床装置中利用电容X线断层摄影术(ECT)生产流化颗粒的颗粒密度图图像的方法和装置,实现在流化过程期间在线测量流化颗粒的液体含量,并实现在流化期间流化颗粒介电常数的重新校准,当颗粒的液体含量变化时,诸如对于流化床干燥或造粒过程,允许ECT系统在线重新校准。使用定位以测量流化床的侧壁附近的密集流化颗粒的电容的基准电极,进行重新校准测量。ECT传感器阵列的电极可用于对流化颗粒进行重新校准测量,其能够用于在线液体含量测量,诸如液体含量,不用停止流化。该液体含量信息可用于过程控制。该方法也可用于分别提供经过成像平面的固体分布和总体液体分布的图像。 | ||
申请公布号 | CN101842694A | 申请公布日期 | 2010.09.22 |
申请号 | CN200880114470.3 | 申请日期 | 2008.08.22 |
申请人 | 曼彻斯特大学 | 发明人 | 杨五强;王海刚 |
分类号 | G01N27/22(2006.01)I | 主分类号 | G01N27/22(2006.01)I |
代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 王新华 |
主权项 | 一种在流化床装置中通过电容X线断层摄影术产生流化颗粒的颗粒密度图图像的方法,所述流化床装置包括确定流化空间的气体分配板和一个或多个侧壁,和围绕所述一个或多个侧壁定位的电容X线断层摄影术传感器阵列,其中:对应于具有第一介电常数的流化颗粒的第一相和对应于具有第二介电常数的流化气体的第二相被成像,其特征在于:在计算图像中使用的第一介电常数在颗粒的流化期间通过使用一个或多个再校准电容被重新校准,以允许其介电常数值的变化,所述一个或多个重新校准电容由一对或多对基准电极测量,所述一对或多对基准电极被定位以测量接近所述一个或多个侧壁的密集流化颗粒的电容。 | ||
地址 | 英国曼彻斯特 |