| 发明名称 | 半色调掩模、半色调掩模坯料及制造半色调掩模的方法 | ||
| 摘要 | 一种增加蚀刻停止层通用性的半色调掩模。所述半色调掩模(10)具有使用玻璃基板(S)的透光部分(TA)；包括形成在所述玻璃基板上的第一半透光层(11)的第一半透光部分(HA)；以及包括所述第一半透光层、叠加在所述第一半透光层上方的挡光层(13)和形成在所述第一半透光层与所述挡光层之间的蚀刻停止层(12)的挡光部分(PA)。所述第一半透光层和所述挡光层各自由铬或从由铬的氧化物、氮化物、碳化物、氧氮化物、氧碳化物、碳氮化物及氧碳氮化物组成的组中选择的至少一种形成。所述蚀刻停止层包括从由铁(Fe)、镍(Ni)和钴(Co)组成的组中选择的至少一种的第一元素及从由铝(Al)、硅(Si)、钛(Ti)、铌(Nb)、钽(Ta)、铪(Hf)和锆(Zr)组成的组中选择的至少一种的第二元素。 | ||
| 申请公布号 | CN101842744A | 申请公布日期 | 2010.09.22 |
| 申请号 | CN200880114579.7 | 申请日期 | 2008.10.29 |
| 申请人 | 爱发科成膜株式会社 | 发明人 | 影山景弘;山田文彦 |
| 分类号 | G03F1/08(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I | 主分类号 | G03F1/08(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海金盛协力知识产权代理有限公司 31242 | 代理人 | 段迎春 |
| 主权项 | 一种包括玻璃基板的半色调掩模，所述半色调掩模(10)包含：透光部分，其使用所述玻璃基板；第一半透光部分，其包括形成在所述玻璃基板上的第一半透光层；以及挡光部分，其包括所述第一半透光层、叠加在所述第一半透光层上方的挡光层和形成在所述第一半透光层与所述挡光层之间的蚀刻停止层；其中，所述第一半透光层和所述挡光层各自由铬或从由铬的氧化物、氮化物、碳化物、氧氮化物、氧碳化物、碳氮化物及氧碳氮化物组成的组中选择的至少一种形成；所述蚀刻停止层包括从由铁(Fe)、镍(Ni)和钴(Co)组成的组中选择的至少一种的第一元素及从由铝(Al)、硅(Si)、钛(Ti)、铌(Nb)、钽(Ta)、铪(Hf)和锆(Zr)组成的组中选择的至少一种的第二元素。 | ||
| 地址 | 日本国埼玉县 | ||