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Die Erfindung betrifft eine Diathermievorrichtung, umfassend wenigstens einen Applikator mit einer primären Spule beziehungsweise eine Speisespule sowie eine Sekundärspule beziehungsweise Wirkspule, wobei die primäre Spule und die sekundäre Spule einen Abstand zueinander aufweisen; und einen Generator, der dem Applikator RF-Wellen, insbesondere Kurzwellen, zur Verfügung stellt. Die Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, dass eine Einrichtung vorgesehen ist, mit der der Abstand der primären Spule zur sekundären Spule geändert werden kann, wobei wenigstens die sekundäre Spule eine derartige Spulengeometrie aufweist, dass durch Ändern eines Abstandes von primärer und sekundärer Spule die Geometrie des erzeugten elektromagnetischen Feldes im Raum geändert wird.
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