发明名称 ATOMIC LAYER DEPOSITION APPARATUS
摘要
申请公布号 KR100982842(B1) 申请公布日期 2010.09.16
申请号 KR20080038692 申请日期 2008.04.25
申请人 发明人
分类号 C23C16/455;C23C16/00 主分类号 C23C16/455
代理机构 代理人
主权项
地址