发明名称 一种紫外低吸收YAl<sub>3</sub>(BO<sub>3</sub>)<sub>4</sub>晶体的生长方法
摘要 本发明涉及YAl3(BO3)4非线性光学晶体的生长方法。该方法使用了新的助熔剂Li2CO3-Al2O3-B2O3体系和Li2CO3-Al2O3-B2O3-LiF体系,可以较大幅度地降低晶体的生长温度,避免了助熔剂引入的过渡金属杂质引起的晶体紫外透过率下降,可以稳定地生长出尺寸为厘米级、质量较好的YAl3(BO3)4晶体;此外,该工艺生长晶体的速度较快,成本低廉,对设备要求低,操作简单。
申请公布号 CN101831706A 申请公布日期 2010.09.15
申请号 CN200910111251.6 申请日期 2009.03.13
申请人 中国科学院福建物质结构研究所 发明人 叶宁;陈啸
分类号 C30B29/22(2006.01)I;C30B9/12(2006.01)I;G02F1/355(2006.01)I 主分类号 C30B29/22(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 采用熔盐法生长紫外低吸收YAl3(BO3)4晶体的方法,其特征在于:采用Li2CO3-Al2O3-B2O3体系或Li2CO3-Al2O3-B2O3-LiF体系作为助熔剂体系。
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