发明名称 掩模版原片的质量检测系统和方法
摘要 本发明提供一种掩模版原片的质量检测系统和方法,所述系统包括:辐射收发装置、辐射感应装置和信号处理装置,其中,所述辐射收发装置,用于发出辐射入射至掩模版原片表面,将掩模版原片表面反射的辐射接收并发送给所述辐射感应装置,所述辐射收发装置为掩模版曝光装置;所述辐射感应装置,用于从所述辐射收发装置接收掩模版原片反射的辐射;所述信号处理装置,用于由辐射感应装置收到的辐射确定掩模版原片的质量状况,例如原片缺陷、沾污粉尘或其他杂质颗粒的状况。所述的检测系统和方法,能够以较低的检测成本检测来自掩模版原片曝光前或曝光过程中的质量问题,及时、有效的发现粉尘等缺陷。
申请公布号 CN101833235A 申请公布日期 2010.09.15
申请号 CN200910047631.8 申请日期 2009.03.13
申请人 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 发明人 张卫航
分类号 G03F1/00(2006.01)I 主分类号 G03F1/00(2006.01)I
代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人 李丽
主权项 一种掩模版原片的质量检测系统,其特征在于,包括:辐射收发装置、辐射感应装置和信号处理装置,其中,所述辐射收发辐射装置,用于发出辐射入射至掩模版原片表面,将掩模版原片表面反射的辐射接收并发送给所述辐射感应装置,所述辐射收发装置为掩模版曝光装置;所述辐射感应装置,用于从所述辐射收发装置接收掩模版原片反射的辐射;所述信号处理装置,用于由辐射感应装置收到的辐射确定掩模版原片的质量状况。
地址 201203 上海市浦东新区张江路18号