发明名称 垂直磁记录介质、其制造方法和磁记录再生装置
摘要 本发明提供一种垂直磁记录介质,其是在非磁性基板上至少具有衬里层、取向控制层、磁记录层和保护层的垂直磁记录介质,所述取向控制层由从所述基板侧起包含种子层、第1中间层和第2中间层的3层以上构成,构成所述第1中间层的晶粒分别外延生长于构成所述种子层的晶粒上,构成所述第2中间层的晶粒分别外延生长于构成所述第1中间层的晶粒上,并且,构成所述第2中间层的晶粒与构成所述第1中间层的晶粒相比已微细化。
申请公布号 CN101836255A 申请公布日期 2010.09.15
申请号 CN200880113188.3 申请日期 2008.08.28
申请人 昭和电工株式会社;株式会社东芝;国立大学法人东北大学 发明人 高桥研;齐藤伸;黑川刚平;佐佐木有三;小松田辰;桥本笃志;竹尾昭彦;前田知幸
分类号 G11B5/738(2006.01)I;G11B5/65(2006.01)I;G11B5/667(2006.01)I;G11B5/851(2006.01)I 主分类号 G11B5/738(2006.01)I
代理机构 北京市中咨律师事务所 11247 代理人 段承恩;陈海红
主权项 一种垂直磁记录介质,是在非磁性基板上至少具有衬里层、取向控制层、磁记录层和保护层的垂直磁记录介质,其特征在于,所述取向控制层由从所述基板侧起包含种子层、第1中间层和第2中间层的3层以上构成,构成所述第1中间层的多个晶粒分别外延生长于构成所述种子层的1个晶粒上,构成所述第2中间层的1个晶粒分别外延生长于构成所述第1中间层的1个晶粒上,构成所述磁记录层的1个晶粒分别外延生长于构成所述第2中间层的1个晶粒上,并且,构成所述第2中间层的晶粒与构成所述第1中间层的晶粒相比微细化。
地址 日本东京都