| 发明名称 | 层叠构造及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种层叠构造及其制造方法，其不增加氧化物透明导电膜和Al合金膜之间的接触电阻且直接连接氧化物透明导电膜和Al合金、布线电阻小，在显影液等电解质液中不易发生电池作用腐蚀。其中制造层叠构造的方法具备有：在基板上形成所述氧化物透明导电膜的第一工序、在该氧化物透明导电膜上形成含有离子化倾向比铝小的合金成分的Al合金膜的第二工序、在由铝和所述合金成分构成的金属间化合物的析出温度以上，对所述Al合金膜进行加热的第三工序。 | ||
| 申请公布号 | CN101335203B | 申请公布日期 | 2010.09.15 |
| 申请号 | CN200810108560.3 | 申请日期 | 2008.05.27 |
| 申请人 | 株式会社神户制钢所 | 发明人 | 后藤裕史;越智元隆;武富雄一;川上信之 |
| 分类号 | H01L21/28(2006.01)I;H01L21/768(2006.01)I;H01L21/84(2006.01)I;H01L23/532(2006.01)I;H01L29/43(2006.01)I;H01L27/12(2006.01)I;G02F1/1362(2006.01)I;G02F1/1343(2006.01)I;H01B13/00(2006.01)I;H01B5/14(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/28(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 汪惠民 |
| 主权项 | 一种层叠构造的制造方法，制造由氧化物透明导电膜和Al合金膜直接连接而成的层叠构造，其特征在于，具有：在基板上形成所述氧化物透明导电膜的第一工序、在该氧化物透明导电膜上形成含有离子化倾向比铝小的合金成分的Al合金膜的第二工序、将所述Al合金膜加热到由铝和所述合金成分构成的金属间化合物的析出温度以上的第三工序。 | ||
| 地址 | 日本兵库县 | ||